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根据不同的抛光要求可分为不同粒度(10~150 nm)的产品。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
n 高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)
n 粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)
n 高纯度(Cu含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污
高平坦度加工,本品抛光利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
成份 | 含量(w%) |
SiO2 | 15~30 |
Na2O | ≤0.3 |
重金属杂质 | ≤50 ppb |
主要配方: 成份 ...
二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度(10~1...
一、纳米二氧化硅纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,因其粒径很小,比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、...
1、 光通讯领域,配合公司专门为光纤连接器开发的抛光产品,能达到超精细抛光效果,抛光后连接器端面没有划伤和缺陷,3D指标和反射衰减指标达到国际标准。
2、 硬盘基片的抛光,SiO2磨料呈球形,具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点。
3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛,具有抛光速率高,抛光后易清洗,表面粗糙度低,能够得到总厚偏差(TTV)极小的质量表面。
4、其他领域的应用,如不锈钢、光学玻璃等领域,抛光后能达到良好的抛光效果
石英砂(二氧化硅)
高纯天然石英砂进口激增存在问题不容忽视 2005-5-18 15:11:17 高纯石英砂是生产石英坩埚的重要原料。而高纯石英坩埚是制造单晶硅棒的容器,硅棒经 切割而成的硅片为制造芯片的基础原料。据海关统计,今年 1至 4月,天津口岸进口高纯 天然石英砂 823.8吨(由于商品编码 25051000包括硅砂和石英砂,因此本文数据来源于 海关报关单数据库,品名为:高纯天然石英砂),价值 343.4 万美元,比去年同期(下同) 分别增长 2.9倍和 3.2倍。 一、今年 1至 4月天津口岸进口高纯天然石英砂的主要特点 (一)全部自美国进口。 (二)全部以一般贸易方式进口。 (三)进口平均价格小幅增长。 由去年同期的 3882美元 /吨,增长今年的 4168美元 /吨, 小幅增长 7.4%。 二、今年 1至 4月天津口岸进口高纯天然石英砂数量增长的原因 (一)近年来我国集成电路制造产业飞速发展,
超低损耗纯二氧化硅芯光纤概述
对长距离传输系统而言,低损耗光纤是不可缺少的传输媒介,目前世界上已经开发出了超低损耗0.1484 dB/km的光纤,刷新了早在1986年创造的0.154 dB/km的记录。这种超低损耗光纤是通过改进纯石英(二氧化硅)纤芯而得到的,其大有效截面积为118μm2,有助于抑制非线性效应。本文也简述了该光纤可能对传输系统的一些影响,传输损耗在宽广的波长范围内(C和L波段)低于0.160 dB/km,这对于EDFA(掺铒光纤放大器)系统是非常有吸引力的;在无中继传输系统中,与传统的Ge-SMF光纤相比,低损耗光纤可使传输距离增大33%,当该超低损耗光纤与后向泵谱分布式喇曼放大器结合使用时,有可能使传输距离增大到400 km.
南京鹏飞研磨材料有限公司是专业从事研磨抛光材料应用技术开发的高科技企业,拥有一支不断追求开拓创新的科技研发队伍,研发中心从事研磨抛光材料的技术、工艺、新产品开发,对公司产品售后提供技术服务与保障。
抛光粉:
氧化铈抛光粉具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。已在各种光学玻璃器件研磨抛光中获得了广泛的应用。
二氧化硅抛光液:
以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。适用于硅片、锗片、半导体材料,精密光学器件、蓝宝石片等抛光研磨加工。
多晶金刚石抛光液:
以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体等产品的研磨和抛光。
抛光垫:
按材质的不同分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫。