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高密度等离子刻蚀机技术指标

高密度等离子刻蚀机技术指标

1、可加工片子尺寸：Ф150mm以内。 2、均匀性：±5% (4英寸硅片内)。

高密度等离子刻蚀机造价信息

市场价
信息价
询价

高密度Cat5KVM切换器

规格型号：
KH1516A 1控16 Cat5 KVM切换器(40M)
价格行情：
材料单位：
个
材料品牌：
ATEN
材料税率：
13%
供应商：
宏正自动科技华南总部
报价时间：
2022-12-08

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高密度Cat5KVM切换器

规格型号：
KH1508A 1控8 Cat5 KVM切换器(40M)
价格行情：
材料单位：
台
材料品牌：
艾腾
材料税率：
13%
供应商：
艾腾集团广州分公司
报价时间：
2022-12-08

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高密度Cat5KVM切换器

规格型号：
KH1516A 1控16 Cat5 KVM切换器(40M)
价格行情：
材料单位：
台
材料品牌：
艾腾
材料税率：
13%
供应商：
艾腾集团广州分公司
报价时间：
2022-12-08

查看价格

高密度Cat5KVM切换器

规格型号：
KH2508A 2控8 Cat5 KVM切换器(40M)
价格行情：
材料单位：
台
材料品牌：
艾腾
材料税率：
13%
供应商：
艾腾集团广州分公司
报价时间：
2022-12-08

查看价格

高密度Cat5KVM切换器

规格型号：
KH2516A 2控16 Cat5 KVM切换器(40M)
价格行情：
材料单位：
个
材料品牌：
ATEN
材料税率：
13%
供应商：
宏正自动科技华南总部
报价时间：
2022-12-08

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红外高清球机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台
材料税率：
地区时间：
广东2021年4季度信息价
所属行业：
电网工程
备注说明：

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红外高清球机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台
材料税率：
地区时间：
广东2021年3季度信息价
所属行业：
电网工程
备注说明：

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红外高清球机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台
材料税率：
地区时间：
广东2020年2季度信息价
所属行业：
电网工程
备注说明：

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红外高清球机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台
材料税率：
地区时间：
广东2020年1季度信息价
所属行业：
电网工程
备注说明：

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红外高清球机

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台
材料税率：
地区时间：
广东2022年3季度信息价
所属行业：
电网工程
备注说明：

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经济技术指标

规格型号：
40层
需求量：
04.2m层高
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
费用说明：
不含税费 | 不含运费
询价时间：
2009-05-12

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高密度中纤板

规格型号：
高密度中纤板
需求量：
1m²
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2010-09-14

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10mm高密度海绵

规格型号：
10mm高密度海绵
需求量：
1m²
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2020-05-08

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5厘高密度中纤板

规格型号：
5厘高密度中纤板
需求量：
1m³
报价数：
1
材料品牌：
无
材料档次：
中档
费用说明：
不含税费 | 含运费
询价时间：
2017-12-04

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异形高密度板

规格型号：
异形高密度板
需求量：
1m²
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
中档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2016-06-16

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高密度等离子刻蚀机主要功能

薄膜材料刻蚀与加工。 2100433B

高密度等离子刻蚀机技术指标常见问题

高密度板

你好：按纤维板墙面定额子目，把主材换成中纤板
高密度隔断板

市场询价补充计入
高密度灶什么意思？

这里所谓的高密度和低密度主要是根据正常的该处组织内出现与正常组织成分略有不同的表现但是具体是什么还无法确定，比如炎症的反映，肿瘤，囊肿，一些骨化等都会出现。肺部就是低密度，骨骼就是高密度（就是透亮）这...

高密度等离子刻蚀机技术指标文献

TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整

TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整

TEGAL421等离子刻蚀机射频电源的维修及调整

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大小：300KB

页数： 3页

TEGAL421 等离子刻蚀机射频电源的维修及调整 TEGAL421 等离子刻蚀机射频电源的电路图如下：各部分电路的作用， DC Power Supply Board 板是一块电源板提供射频源工作所需的各路电源，包括电子管工作的高低压。 OSICLACTOR Board 板提供射频源的激励信号， Q1是震荡管，Q4是推动管，Q3,Q2组成脉宽功率调节电路。 V1和 V2是两个输出电子管，提供所需的射频功率。其中 Lv 是低压变压器，机器一通电，该变压器就被通电。而 BV 是高压变压器，只有在需要射频输出时才被通电。 Power Coupler 是入射功率和反射功率检测模块。主机背面的电位器 R5 和 R6 用于矫正入射和反射功率的偏差。 Test Port 测试端口用于检测射频电源的工作参数。射频电源的调整射频电源调整的步骤如下： 1. 关闭交流电源。 2. 移除射频电源

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高密度电法.-井下高密度电法

高密度电法.-井下高密度电法

高密度电法.-井下高密度电法

格式：pdf

大小：300KB

页数： 84页

高密度电法.-井下高密度电法

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等离子刻蚀机产品介绍

等离子刻蚀机原理 感应耦合等离子体刻蚀法（Inductively Coupled Plasma Etch，简称ICPE）是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下，ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的等离子体，在下电极的RF 射频作用下，这些等离子体对基片表面进行轰击，基片图形区域的半导体材料的化学键被打断，与刻蚀气体生成挥发性物质，以气体形式脱离基片，从真空管路被抽走。 等离子刻蚀机结构 ICP 设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。 （1）预真空室 预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。 （2）刻蚀腔体 刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。 （3）供气系统 供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。 （4）真空系统 真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

等离子刻蚀机缺点

1、硅片水平运行，机片高（等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干，硅片受冲击小）； 2、下料吸笔易污染硅片（等离子刻蚀去PSG后甩干）； 3、传动滚轴易变形（PVDF，PP材质且水平放置易变形）； 4、成本高（化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加）。 此外，有些等离子刻蚀机，如SCE等离子刻蚀机还具备“绿色”优势：无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、排除有毒和腐蚀性的液体。SCE等离子刻蚀机支持以下四种平面等离子体处理模式： 直接模式——基片可以直接放置在电极托架或是底座托架上，以获得最大的平面刻蚀效果。 定向模式——需要非等向性刻蚀（anisotropic etching）的基片可以放置在特制的平面托架上。 下游模式——基片可以放置在不带电托架上，以便取得微小的等离子体效果。 定制模式——当平面刻蚀配置不过理想时，特制的电极配置可以提供。

等离子刻蚀机构造与工作原理

等离子刻蚀机的组成一般包括等离子发生器(工业上常用RF激发法)，真空室，和电极。 其工作原理是用等离子体中的自由基(radical)去轰击(bombard)或溅射(sputter)被刻蚀材料的表面分子，形成易挥发物质，从而实现刻蚀的目的。也有部分等离子刻蚀机采用反应离子刻蚀技术(Reactive Ion Etching)。

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