ICP干法刻蚀系统造价信息

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黑色蚀刻镜

规格型号：
5mm厚
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
天津市津南区共创玻璃加工厂
报价时间：
2022-12-08

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横卡蚀刻门

规格型号：
单扇门面积以2.1m2(单门宽度≤950mm),蚀刻门系列
价格行情：
材料单位：
扇
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
南昌市佳音科技发展有限公司
报价时间：
2022-12-08

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干法脱硫

规格型号：
1600m3/h,含脱硫剂,监测装置,一用一备【GLDZ】
价格行情：
材料单位：
座
材料品牌：
无锡军湖
材料税率：
13%
供应商：
无锡市军湖通用设备厂
报价时间：
2022-12-08

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镜面8k黑钛蚀刻不锈钢板-不规则蚀刻

规格型号：
品种:镜面不锈钢板;规格(mm):1.0×1220×2440;厚度(mm):1;类型:蚀刻不锈钢板;牌号:201;说明:可提供厚度:0.8、
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京东方通顺不锈钢有限公司
报价时间：
2022-12-08

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主监控系统软件

规格型号：
IPAS2000
价格行情：
材料单位：
台
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
南宁安普电力设备有限公司(玉林市厂商期刊)
报价时间：
2022-12-08

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高压喷药系统

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
汕头市2012年2季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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高压喷药系统

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
汕头市2011年3季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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高压喷药系统

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
汕头市2011年2季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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高压喷药系统

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
广州市2011年1季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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高压喷药系统

规格型号：
价格行情：
材料单位：
台班
材料税率：
地区时间：
汕头市2011年1季度信息价
所属行业：
建筑工程
备注说明：

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楼层过道主要功能场地指引牌

规格型号：
(1)规格:450×2850×150mm(2)1.0mm镀锌板激光切割冲压焊接烤漆,内容镂空内置LED亚克力发光
需求量：
1套
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2022-09-21

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客房主要木皮

规格型号：
WD 2001 定制颜色型号:榆木816 表面做法:哑光半封闭漆+硬化漆
需求量：
45.1347m²
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
费用说明：
不含税费 | 不含运费
询价时间：
2015-07-02

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主要空间入口名称

规格型号：
2800×300×23
需求量：
50个
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2022-03-08

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主要出入口

规格型号：
30cm×10cm
需求量：
5个
报价数：
1
材料品牌：
无
材料档次：
高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2017-08-30

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主要诊疗科牌

规格型号：
/
需求量：
1套
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
中档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2019-10-31

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ICP干法刻蚀系统技术指标

1*10-6pa。

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ICP干法刻蚀系统主要功能常见问题

冷却系统主要功能是什么？

冷却液的作用把点火产生的高温通过水道传递到散热器，再由风扇强制通风散热，把水温温度始终控制在110度以内！
DEHc主要功能?

DEH系统主要功能:　　汽轮机转速控制；自动同期控制；负荷控制；参与一次调频；机、炉协调控制；快速减负荷；主汽压控制；单阀控制、多阀解耦控制；阀门试验；轮机程控启动；OPC控制；甩负荷及失磁工况控制；...
LED灯主要功能是什么？

一、 LED 的结构及发光原理50 年前人们已经了解半导体材料可产生光线的基本知识，第一个商用二极管产生于 1960 年。 LED 是英文 light emitting diode （发光二极管）的缩...

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ICP干法刻蚀系统主要功能文献

干法刻蚀工艺总结

格式：pdf

大小：1.6MB

页数： 13页

干法刻蚀工艺总结离子束刻蚀机（ IBE-150A）背景 : 利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。把 Ar、Kr 或 Xe之类惰性气体充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面撞击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理过程。技术指标：装片：一片六英寸衬底、或 1片四英寸，向下兼容。抽气速度： 30min由 ATM 到 1.0×10-3Pa 极限真空度： 2×10-4Pa 离子能量： 300eV-400eV ICP 刻蚀机（ OXFORD ICP 180）背景 : 通入反应气体使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解，产生的具有强化学活性的等离子体在电场的加速作用下移动到样品表面，对样品表面既进行化学

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第二章干法刻蚀的介绍

格式：pdf

大小：1.6MB

页数： 7页

第二章干法刻蚀的介绍 2. 1刻蚀、干法刻蚀和湿法腐蚀 2. 1 .1关于刻蚀刻蚀，是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的基本目的，是在涂胶 (或有掩膜 )的硅片上正确的复制出掩膜图形 [1]。刻蚀，通常是在光刻工艺之后进行。我们通常通过刻蚀，在光刻工艺之后，将想要的图形留在硅片上。从这一角度而言，刻蚀可以被称之为最终的和最主要的图形转移工艺步骤。在通常的刻蚀过程中，有图形的光刻胶层〔或掩膜层 )将不受到腐蚀源显著的侵蚀或刻蚀，可作为掩蔽膜，保护硅片上的部分特殊区域，而未被光刻胶保护的区域，则被选择性的刻蚀掉。 2.1.2 干法刻蚀与湿法刻蚀在半导体制造中有两种基本的刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法腐蚀。干法刻蚀，是利用气态中产生的等离子体，通过经光刻而开出的掩蔽层窗口，与暴露于等离子体中的硅片行物理和化学反应，刻蚀掉硅片上暴露的

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ICP干法刻蚀机技术指标

1. 反应腔室本底真空： < 1 x 10-6 mbar (1x 10-4 Pa)，抽真空2小时后 2. 反应腔室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 3. 预真空室本底真空： < 1 x 10-1 mbar (10 Pa) 4. 预真空室漏率： < 5 x 10-4 mbar？l/s 5. 样片操作：不同设置：样片进/出 6. 气路系统：测试所有质量流量计（设定值10%, 50%, 90%） 7. 压力控制：压力计/控制阀，不同压力 8. 下电极温度控制：不同设置，-30oC~ 200oC（带循环冷却器Chiller）或RT~ 250oC（外接冷却水） 9. 等离子体测试：不同设置（Ar或N2） 10. 反射功率： ≤ 1%，ICP功率 ≥ 500 W≤ 5 W，ICP功率 < 500 W 11. 其他：安全互锁、运行工艺处方（Recipe）等 12. SiC刻蚀工艺 Cr掩膜刻蚀深度：≥ 2 μm 刻蚀速率：≥ 400 nm/min 选择比：≥ 40:1 （SiC: Cr）片上不均匀性：在50 mm范围内 ≤。

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ICP干法刻蚀机主要功能

主要功能：等离子刻蚀是利用高频辉光放电效应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀部位，与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性反应物而被去除。其优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。

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ICP年检ICP办理

ICP年检 目录ICP年检的定义ICP办理展开ICP年检的定义ICP办理展开 编辑本段ICP年检的定义 根据《中华人民共和国电信条例》、《电信业务经营许可证管理办法》、《电信设备进网管理办法》的有关规定，已取得各省地区直辖市电信增值业务经营许可证的经营单位，对取得信息产业部颁发的跨地区电信业务经营单位的各地区分支机构以及获得电信设备进网许可证生产企业和持证单位在每年的规定时间内进行再次备案。 以2010年ICP年检为例 参检单位 （一）2009年9月30日以前获得各省市自治区直辖市通信管理局颁发的增值电信业务经营许可证的经营单位须参加年检。 （二）2009年9月30日以前获得信息产业部颁发的跨省经营增值电信业务经营许可证并在北京市通信管理局办理了备案核准手续的经营单位须参加年度检查。 报送年检的有关材料要求 参加年检单位需报送的材料（请一律使用A4纸打印，持多个业务许可的单位请备齐材料一次报送）。 （一）报送增值电信业务经营许可证年检报告\业务年检报表（网上下载，用计算机填写法人签字并加盖公章） （二）增值电信业务经营许可证原件（参加过年检的单位需持年检合格通知书。） （三）工商营业执照副本复印件 （四）公司2009年度财务会计报告（损益表、现金流量表、资产负债表） （五）公司经营报告：内容包括 2008年公司电信业务经营情况整体回顾 2008年公司新增电信业务或栏目、对电信市场环境的情况分析 2009年公司业务发展规划。 （六）2009年度电信业务经营许可证年检调查问卷。 凡未参加年检或年度检查的，将视为自动放弃并将按有关规定对所发许可和备案进行注销处理。 年检时间：年检工作将从2010年3月1日开始到2010年3月31日止。

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ICP干法刻蚀系统主要功能

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主要出入口

主要诊疗科牌

ICP干法刻蚀系统技术指标

ICP干法刻蚀系统主要功能常见问题

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ICP干法刻蚀机技术指标

ICP干法刻蚀机主要功能

ICP年检ICP办理

参检单位

报送年检的有关材料要求

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