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联络线偏差控制

既维持联络线实际交换功率与计划交换功率一致,又进行互联电网频率偏差调节的自动发电控制模式。 
——引自GB/T 33590.2-2017《智能电网调度控制系统技术规范 第2部分:术语》

联络线偏差控制基本信息

联络线偏差控制简介

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联络线偏差控制造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

联络

  • 10KV 断路器1250A/31.5KA,CT×2,带电显示器,零序,保护.
  • 13%
  • 深圳市亿玛电气有限公司
  • 2022-12-07
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络线、电话线、BA控制线、音箱线

  • BA控制线 4*24AWG+7/0.2mm
  • 100m
  • 13%
  • 吉安市荣泰电讯科技有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

络线、电话线、BA控制线、音箱线

  • BA控制线 4*24AWG+7/0.2mm
  • 100m
  • 13%
  • 江西普天数据电缆有限公司
  • 2022-12-07
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预分支电缆网络线

  • YDF 超五类线
  • km
  • 坚宝
  • 13%
  • 广东坚宝电缆有限公司漳州销售处
  • 2022-12-07
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络线、电话线、BA控制线、音箱线

  • BA控制线 4×24AWG+7/0.2mm2
  • m
  • 13%
  • 江西中圣电线电缆有限公司
  • 2022-12-07
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线卷车

  • DSJ23-122
  • 台班
  • 汕头市2012年2季度信息价
  • 建筑工程
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线卷车

  • DSJ23-122
  • 台班
  • 汕头市2011年3季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

线卷车

  • DSJ23-122
  • 台班
  • 汕头市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

线卷车

  • DSJ23-122
  • 台班
  • 广州市2010年4季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

线卷车

  • DSJ23-122
  • 台班
  • 汕头市2010年4季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

10KV联络线保护

  • Micom P127详见技术规格书
  • 2套
  • 3
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-09-21
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偏差螺丝

  • 5960个
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 不含运费
  • 2015-05-11
查看价格

偏差螺丝

  • 6755个
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-05-12
查看价格

络线

  • 16×UTP线
  • 1m
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2010-07-14
查看价格

络线

  • CS网络线
  • 2185km
  • 4
  • 川达
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2015-07-11
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联络线偏差控制常见问题

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联络线偏差控制文献

天津西纵联络线立交设计 天津西纵联络线立交设计

天津西纵联络线立交设计

格式:pdf

大小:597KB

页数: 2页

天津西纵联络线立交设计——文中结合西纵联络线立交设计,阐述了城市大型枢纽立交方案设计中需考虑的设计原则,注意事项等内容并提出相应建议。

母线联络柜简介

母线联络柜,也叫母线分段柜,是用来连接两段母线的设备。

在单母线分段、双母线系统中常常要用到母线联络柜,以满足用户选择不同运行方式的要求或保证故障情况下有选择的切除负荷。

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尺寸偏差对角线允许偏差

表12 ~ 表15 列出国内外标准中铝合金板材的对角线允许偏差。新版GB T 3880 标准中板材的对角线允许偏差与EN485-4 标准中的基本一致。

ANSI 35 .2 M标准中板材的对角线允许偏差与GB T3194 标准中高精级板材的一致。

表12  新版GB T 3880 标准中高精级A 类板材的对角线允许偏差

表13  新版GB T 3880 标准中高精级B 类板材的对角线允许偏差

表14  EN485-4 标准中板材的对角线允许偏差

表15  ANSI35 .2 M 标准中板材的对角线允许偏差

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线宽偏差简介

掩模之间的主要表现在线宽的偏差(offset)。由于制备工艺的差别,一个掩模上所有的关键图形处的线宽通常比另一个掩模的对应线宽相差一个固定值,这个偏差又被称为“global CD offset”。这种固定的掩模线宽偏差会导致曝光图像线宽变化的不均匀性,MEEF值是和掩模图形尺寸及其周围图形相关联的,掩模上的这种线宽变化必然会导致晶圆上“through-pitch”行为的不同。而且,线宽对曝光剂量的敏感度(exposure latitude)也会发生变化。因此,必须调整光照条件来补偿这种变化 。

在量产时,同一个光刻层可能存在两块或者两块以上的掩模,这些掩模用于多个光刻机,增大光刻的产能。理论上,这些掩模应该是相同的(nominally identical reticles);实际上,由于掩模制备工艺的不稳定性,每一个掩模参数与目标值的偏差不完全一样(particular difference in their mean-to-target)。甚至,这些掩模可能来自于不同得掩模工厂,掩模工厂之间的设备就存在偏差。掩模匹配是通过精细调整光刻机的曝光参数,使得不同掩模在同一台光刻机上曝光得到的结果一致。2100433B

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