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一种用于调节制作半导体晶片的CMP装置的抛光垫的装置,该装置包括构造成至少部分地在一抛光垫之上延伸的一控制臂。该装置还包括连接至控制臂的至少一个圆柱形调节件,该控制臂构造成将所述至少一个圆柱形调节件施加至抛光垫。
根据我所了解的大理石抛光垫的价格如下: 青岛长乐昊宇石业有限公司的大理石抛光垫价格是55元 罗田地皇石材有限公司的大理石抛光垫价格是60元 永定县洪山盛鑫石板材厂的大理石抛光垫价格是50元 以上价格源...
抛光蜡 打蜡 抛光 是什么意思?是抛光的时候要用到抛光蜡?还是打蜡后要抛光?
抛光蜡是蜡的一种,是用在抛光过程中的蜡,核心作用是研磨;打蜡是一种美容项目,把车蜡作用在车漆表面,起到保护车漆的作用,有一定的光洁度和光滑度;抛光是工艺的一种,是美容项目中不可或缺的环节,作用是去划痕...
你这么问我也没法达下面就是总之每个配方的研磨剂含量不同。买的时候问清楚,一般只要跟售货员清楚车漆状况就好选择了。 sonax带有抛光功能的蜡分超级(黑色瓶标乳黄蜡液);特级(宝石蓝色瓶标乳白蜡液);和...
固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究
采用失重法与铅笔硬度计分析了抛光垫的组分对其溶胀率及干湿态硬度的影响,比较了固结磨料方法与游离磨料方法抛光后硅片的表面粗糙度。结果表明:抛光垫基体的溶胀率随基体中聚乙二醇双丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羟基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基体的干态硬度随PEGDA含量的增加先有所增大,而后减小,随EO15-TMAPTA含量的增加而增大;湿态下铅笔硬度随PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而减小;光引发剂量的增加,有利于增大基体的干湿态硬度;固结磨料抛光硅片的去除速率是游离磨料加工的2~3倍,而前者抛光硅片后的表面粗糙度Ra为12.2nm,大于后者的4.32nm。
叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析
为了解决在化学机械抛光过程中抛光接触区域内抛光液的分布均匀性问题,基于生物学的叶序理论,设计葵花籽粒结构的仿生抛光垫,建立化学机械抛光抛光液流场的运动方程和边界条件,利用流体力学软件(Fluent)对抛光液的流动状态进行仿真,并获得叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。结果表明:抛光液在基于葵花籽粒的仿生抛光垫的流动是均匀的,抛光液沿着逆时针和顺时针叶列斜线沟槽流动,有利于流体向四周发散。
按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。
①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;
②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出,达到去除效果;
③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行;
④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌;
①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力;
②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力;
③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量;
④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度,;
⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度;