CAS号：10294-33-4

MDL号：MFCD00011312

EINECS号：233-657-9

RTECS号：ED7400000

R14:Reacts violently with water.;

R26/28:Very toxic by inhalation and if swallowed.;

R35:Causes severe burns.;

S26:In case of contact with eyes, rinse immediately with plenty of water and seek medical advice.;

S28A:After contact with skin, wash immediately with plenty of water.;

S36/37/39:Wear suitable protective clothing, gloves and eye/face protection.;

S45:In case of accident of if you feel unwell, seek medical advice immediately (show the label where possible).;

S9:Keep container in a well-ventilated place.;

1.重要的工业原料，广泛用于玻璃、化工、轻工、纺织、漂染、冶金、石油加工、医药、食品等方面。烧碱主要用于人造纤维、造纸、染料、肥皂、塑料、医药、农药等方面。小苏打主要用于食品、塑料、橡胶、医药、印染、鞣革、农业浸种等领域。2.用作半导体的掺杂材料，有机合成的催化剂、中间体和溴化剂。是制造高纯硼及其他有机硼化合物的原料。3.是一种用途广泛的合成试剂，用作有机合成的催化剂和溴化剂，也是制造高纯硼及其它有机硼化合物的原料。溴化硼可以参与促进醚键、胺键、硫醇键的断裂反应，以及丙二烯、炔烃等化合物的加成反应等。它也可以用于医药化学领域[1]，天然产物化学领域[2]及新材料等领域。溴化硼易于和C-O键反应生成烷氧基硼化物和溴代烃，水解后得到相应的醇类产物。尤其在芳甲醚的断裂反应中，溴化硼的活性明显高于其它试剂。多取代的芳环醚化合物分别和溴化硼反应可以高收率得到相应酚类物质 (式1[3]，式2[4])。溴化硼在断裂醚键后生成的溴代烃也可以发生分子内环合反应形成环化物。如多取代芳醚化合物和溴化硼反应后生成苯并呋喃类衍生物 (式3)[5]；二茂钛化合物和溴化硼反应形成钛杂环化物 (式4)[6]，该反应实际是首先发生卤素交换反应，然后分子内消除反应关环而成。该反应可用于合成系列天然产物分子中的骨架结构。溴化硼很容易和丙二烯、炔烃等化合物进行加成反应。它和丙二烯反应得到 (2-溴烯丙基)二溴硼烷 (式5)[7]，该化合物再和苯甲醚反应得到取代二苯氧基硼烷。溴化硼和炔烃通常进行顺式加成反应得到高度立体选择性的产物 (式6)[7]。4.用于有机硼化合物和高纯硼的制取，也用作半导体的掺杂材料，有机合成的催化剂、溴化剂等。[20]

1.直接合成法 将干燥的元素硼粉装入管式反应炉的反应管中，为使反应能充分进行，反应管内应放入一定量的填料，填料材质与管壁同。将反应管加热至850℃，另外将溴素在溴釜中也同时加热至微沸，然后通人反应管。反应生成的溴化硼液体在脱溴器中与活性炭、锌粉和铝屑共同加热回流至生成的溴化硼为无色为止，再经粗馏、精馏，制得完全无色的溴化硼成品。其反应方程式如下：

图XIII-10 三氯化硼的制备装置

图XIII-11 三氯化硼的合成装置

2.用三氟化硼制备。可以使用图所示的装置。1L圆底烧瓶用一根直径约30mm、长25cm的玻璃管与500mL蒸馏烧瓶的底熔接在一起。三氟化硼的进料管通过软木塞插到蒸馏烧瓶之中，并延伸到大烧瓶的中央。500mL烧瓶是为避免大量三氯化铝与三氯化硼一起升华，起着冷凝器的作用。蒸馏烧瓶上有支管与U形管连接，U形管用干冰甲醇冷却，在U形管的出口装有干燥管。在反应烧瓶中装入67g无水三氯化铝(0.5mol)。将BF3发生装置通过硫酸洗气瓶与反应烧瓶连接起来。发生装置必须是足以发生132g(2mol)BF3的才行。BF3的流速大约为30min通过2mol的气体。在装置内通入BF3将空气逐出以后，用小火焰慢慢地加热装有三氯化铝的反应烧瓶。当温度上升时，反应立即开始，继续加热，再用两个加热器强烈加热两个烧瓶，使产物从反应混合物中分离出来，直到三氯化硼全部蒸馏出来为止。分离出生成的三氯化硼后，加热时，则三氟化铝就成为白色粉末，从烧瓶器壁上剥落下来。三氯化硼则集聚在U形管中。反应结束以后，将U形管取下密封。可用蒸馏法进行提纯。可得47g产品(80%)。

3.用KBF4制备。可用制法1的装置，以KBF4代替BF3。用133g无水三氯化铝(1mol)及62g KBF4(05mol)，用油浴加热4h，缓缓地使温度从150℃上升至175℃。生成的三氯化硼用液氮冷凝，再进行蒸馏。可得30g产品(对KBF4而言，收率为52%)。

储存注意事项[19] 储存于阴凉、干燥、通风良好的库房。远离火种、热源。包装必须密封，切勿受潮。应与碱类、醇类等分开存放，切忌混储。不宜久存，以免变质。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。

1.性状：无色或稍带黄色的发烟液体，有强烈的刺激性臭味。[8]

2.熔点（℃）：-46[9]

3.沸点（℃）：90~91.2[10]

4.相对密度（水=1）：2.65[11]

5.饱和蒸气压（kPa）：5.33（14℃）[12]

6.辛醇/水分配系数：1.43[13]

7.溶解性：溶于四氯化碳、二氧化硫（液体）、二硫化碳。[14]

中文名称:三溴化硼

英文名称:Boron tribromide

中文别名:天然碱;溴化硼;碳酸钠石;三溴化硼

英文别名:Boron tribromide solution; Borontribromidedichloromethane; Boronbromideelecgrcolorlesspaleyellowliq; Boron bromide; BBr3; Borane,tribromo-; Boron,tribromo-; boronbromide(bbr3); tribromo-boran; tribromoborane; tribromoboron; tribromo-Boron

CAS号:10294-33-4

分子式:BBr3

分子量:250.523

1、摩尔折射率：28.67

2、摩尔体积（m3/mol）：90.0

3、等张比容（90.2K）：225.5

4、表面张力（dyne/cm）：39.3

5、介电常数：无可用的

6、极化率（10-24cm3）：11.36

7、单一同位素质量：247.764296 Da

8、标称质量：248 Da

9、平均质量：250.523 Da

1、疏水参数计算参考值（XlogP）：无

2、氢键供体数量：0

3、氢键受体数量：0

4、可旋转化学键数量：0

5、互变异构体数量：无

6、拓扑分子极性表面积（TPSA）：0

7、重原子数量：4

8、表面电荷：0

9、复杂度：8

10、同位素原子数量：0

11、确定原子立构中心数量：0

12、不确定原子立构中心数量：0

13、确定化学键立构中心数量：0

14、不确定化学键立构中心数量：0

15、共价键单元数量：1

该物质对环境可能有危害，对水体应给予特别注意。

1.易被水和醇等分解，受热会爆炸，对人体组织有强烈刺激作用，其蒸气剧毒，腐蚀性较强，具有强吸水性，见光、遇热易分解，接触空气冒白烟。为强路易式酸，能与碱反应形成络合物和加成物。

2.在干燥空气中不变化。溶于无机酸并剧烈起泡。天然碱产于不同的盐湖沉积物中，主要产于碱湖及古代沉积矿床中，常与针碳钠钙石、水碱、泡碱、石盐、芒硝、钙芒硝、无水芒硝和石膏共生。遇空气中的湿气很容易水解。

3.稳定性[15] 稳定

4.禁配物[16] 碱类、水、醇类

5.避免接触的条件[17] 受热、潮湿空气、光照

6.聚合危害[18] 不聚合

产品简介: 无色或稍带黄色的发烟液体，有强烈的刺激性臭味。临界温度300℃，折射率1.5312。

产品简介: 二硼化钛为灰白色六方形晶体或粉末，无味。其熔点2980℃，密度4.5~4.52，硬度(Hi)3600。它具有优良的抗氧化性及导电性能。平均粒径D=4~8μ。

产品简介: 熔点1760℃，抗氧化性能好，高温强度大。

一、性质:

六硼化钙的分子式CaB6，是黑灰色粉末，溶点为2235℃，相对密度(15℃)2.33g/cm3，硬度(莫氏)9，不溶于盐酸、氢氟酸、稀硫酸。不溶于水，能被氯、氟、硝酸及过氧化氢等氧化剂所侵蚀，与碱反应很慢。在常温下，空气中稳定不易燃。具有半导体性质和中子吸收性能、无毒性。

二、质量:

B≥55.5% Ca≥30% C≤8%

粒度:20#~60# 20#~80# -100# -325# -400#或按客户要求生产

三、用途:

1、用作镁碳砖中防氧化剂;

2、用作白云石炭和镁白云石炭耐火材料的抗氧化、抗侵蚀和提高热态强度的含硼添加剂;

3、用作高导铜提高强度的脱氧除气剂和无氧铜、纯铜铸件的脱氧剂

4、用作核工业防中子的新型材料;

5、用作居礼温度900K的自旋电子组件用的新型半导体材料;

6、用作制造三氯化硼(BCL3)和无定型硼的原料;

7、用作制造高纯度金属硼化物(TiB2、ZrB2、HfB2等)以及高纯度硼合金(Ni-B、Co-B、Cu-B等)的原材料;

8、用作制造含触媒剂钙-硼氮化物(Ca3B2N4)和六方氮化物的混合物，用其生产性能优异的晶体立方氮化硼;

9、用作硼合金铸铁的脱硫除氧增硼剂;

10、用作硼钢的脱硫除氧增硼剂;

11、特殊钢材内的细晶剂。

按材质分,有无机光导纤维和高分子光导纤维，目前在工业上大量应用的是前者。无机光导纤维材料又分为单组分和多组分两类。单组分即石英，主要原料为四氯化硅、三氯氧磷和三溴化硼等。其纯度要求铜、铁、钴、镍、锰、铬、钒等过渡金属离子杂质含量低于10ppb。除此之外,OH-离子要求低于10ppb。石英纤维已被广泛使用。多组分的原料较多，主要有二氧化硅、三氧化二硼、硝酸钠、氧化铊等。这种材料尚未普及。高分子光导纤维是以透明聚合物制得的光导纤维，由纤维芯材和包皮鞘材组成。芯材为高纯度高透光性的聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯抽丝制得的纤维，外层为含氟聚合物或有机硅聚合物等。

高分子光导纤维的光损耗较高，1982年，日本电信电报公司利用氘化甲基丙烯酸甲酯聚合抽丝作芯材,光损耗率降低到20dB/km。但高分子光导纤维的特点是能制大尺寸，大数值孔径的光导纤维，光源耦合效率高，挠曲性好，微弯曲不影响导光能力，配列、粘接容易，便于使用，成本低廉。但光损耗大，只能短距离应用。光损耗在10～100dB/km的光导纤维，可传输几百米。