当前，在光信息领域使用的微透镜阵列（折射型和衍射型）的结构都是圆孔径、方形排列或六角形排列，这种结构的微透镜阵列因圆形透镜元间存在较大的空隙，填充系数（有效受光面积与总受光面积之比）不大，至少有21%或10%的光信息漏泄，产生严重的图文信息的丢失与失真，这是微透镜阵列应用必须解决的重大问题。为了促进光学图像传递、转换与接受，光束整形、光信息耦合阵列、图文交叉互连网络、综合成像和多孔径光学系统等高性能器件的发展，必须尽快提高微透镜阵列的填充系数。为此，本项目主要开展方形自聚焦透镜和高填充系数（优于93%）的方形孔径微透镜阵列的理论和实验研究，制作高填充系数的方型孔径微透镜阵列，并对其像差特性作较深入地探讨。由于这方面文献报导很少，难度大、问题多、要求高。我们有条件、有信心通过团结奋斗，提供合格样品，发表高水平论文3篇以上，申请专利2项，很好完成任务。

目前对于表面微结构的制作，常见的方法一般都是利用硅进行刻蚀，利用体硅刻蚀技术制作各种微纳结构也是研究热点。

刻蚀最简单分类是:干法刻蚀和湿法刻蚀。感应祸合等离子体(InductivelyCoupled Plasma. ICP)刻蚀是一种干法刻蚀，原理是通过电感祸合等离子体辉光放电分解反应气体，对样品表面进行物理轰击以及化学反应生成挥发性气体，达到刻蚀的目的。ICP刻蚀技术由于其具有精度高、刻蚀快、均匀性和刻蚀垂直度好、污染少和刻蚀表面平整光滑等优点，常用于刻蚀高深宽比结构，在微结构加工中被广泛应用。

沟槽型的微结构基底可以得到双焦距微透镜，但在制作沟槽型基底前，首先要制作一些阵列柱状的微结构进行一些规律的探索与验证。由热力学分析可知影响接触角的微结构特征参数主要就是柱宽、柱间距和柱高，所以制作这几个参数不同的微结构基底进行接触角实验。