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中文名称:一氧化硅
英文名称:Silicon(II) oxide
CAS号:10097-28-6
分子式:SiO
分子量:44.0838
1. 性状：白色立方体或黄土色无定形粉末，在空气中热处理时，黄土色粉末变成白色粉末。2. 密度（g/mL,25℃）：2.243. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：2.18~2.24. 熔点（ºC）：17025. 沸点（ºC,常压）：>1700
6. 沸点（ºC,5.2kPa）：未确定
7. 折射率：1.980
8. 闪点（ºC）：1880
9. 比旋光度（º）：未确定
10. 自燃点或引燃温度（ºC）：未确定
11. 蒸气压（kPa,20ºC）：未确定
12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定
13. 燃烧热（KJ/mol）：未确定
14. 临界温度（ºC）：未确定
15. 临界压力（KPa）：未确定
16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定
17. 爆炸上限（%,V/V）：未确定
18. 爆炸下限（%,V/V）：未确定
19. 溶解性：不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。
一、纳米二氧化硅纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,因其粒径很小,比表面积大,表面吸附力强,表面能大,化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能,以其优越的稳定性、补强性、...
岩石或矿物中没有与金属或金属化合物结合而呈游离状态的二氧化硅。游离二氧化硅按晶体结构分为结晶型、隐晶型和无定型三种。二氧化硅（化学式：SiO2）是一种酸性氧化物，对应水化物为硅酸（H2SiO3）。二氧...
硅的用途：1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。3、光导纤维通信，最新的现代通信手段。4、性能优异的硅有机化合物。5、由于有机硅独特的结构，以及优异特性，广泛应用于航空...
应贮存在阴凉、通风、干燥、清洁的库房内
1.将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO2混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，其温度为1600℃，压力为1.013 kPa，经还原反应生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
图XIV-10 一氧化硅的制备装置
其反应式：
2.图一氧化硅的制备装置如图所示，在反应管里放好氧化铝烧结块，用由两部分组成的镍制容器进行反应。在容器一侧的前端，放好微粉状硅粉和二氧化硅按1∶1摩尔比的混合物。把容器放到电炉里，在133.322×10-4Pa、1250～1300℃下加热4h，在镍管的低温部分出现冷凝物。这个反应是可逆反应，如果进一步降低压力，提高温度，平衡则向一氧化硅侧移动。反应生成物很容易从镍管中取出来，分离也很容易。剩余的棕色原料是结晶形硅，黄色黏稠状生成物是无定形二氧化硅，在低温部冷凝的黑棕色玻璃状物质是一氧化硅。
一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。用作光学玻璃和半导体材料的制备在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上，作为保护膜。半导体材料的制备。
R36/37/38:Irritating to eyes, respiratory system and skin. 刺激眼睛、呼吸系统和皮肤。;
S26:In case of contact with eyes, rinse immediately with plenty of water and seek medical advice.不慎与眼睛接触后，请立即用大量清水冲洗并征求医生意见。
S36:Wear suitable protective clothing. 穿戴适当的防护服。
CAS号：10097-28-6
MDL号：MFCD00151536
EINECS号：233-232-8
计算化学数据：
1、 疏水参数计算参考值（XlogP）：未确定
2、 氢键供体数量：0
3、 氢键受体数量：1
4、 可旋转化学键数量：0
5、 拓扑分子极性表面积（TPSA）：1
6、 重原子数量：2
7、 表面电荷：0
8、 复杂度：10
9、 同位素原子数量：0
10、 确定原子立构中心数量：0
11、 不确定原子立构中心数量：0
12、 确定化学键立构中心数量：0
13、 不确定化学键立构中心数量：0
14、 共价键单元数量：1
通常对水体是稍微有害的，不要将未稀释或大量产品接触地下水，水道或污水系统，未经政府许可勿将材料排入周围环境。
常温常压下稳定
避免光，明火，高温.不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。热和电的良好绝缘体。在空气中氧化形成二氧化硅膜而钝化。在氧气中燃烧。在温热的碱水溶液里生成氢气，形成硅酸盐而溶解。
石英砂(二氧化硅)
石英砂(二氧化硅)
高纯天然石英砂进口激增存在问题不容忽视 2005-5-18 15:11:17 高纯石英砂是生产石英坩埚的重要原料。而高纯石英坩埚是制造单晶硅棒的容器，硅棒经 切割而成的硅片为制造芯片的基础原料。据海关统计，今年 1至 4月，天津口岸进口高纯 天然石英砂 823.8吨（由于商品编码 25051000包括硅砂和石英砂，因此本文数据来源于 海关报关单数据库，品名为：高纯天然石英砂），价值 343.4 万美元，比去年同期（下同） 分别增长 2.9倍和 3.2倍。 一、今年 1至 4月天津口岸进口高纯天然石英砂的主要特点 （一）全部自美国进口。 （二）全部以一般贸易方式进口。 （三）进口平均价格小幅增长。 由去年同期的 3882美元 /吨，增长今年的 4168美元 /吨， 小幅增长 7.4%。 二、今年 1至 4月天津口岸进口高纯天然石英砂数量增长的原因 （一）近年来我国集成电路制造产业飞速发展，
建筑用氧化硅气凝胶的研究进展
建筑用氧化硅气凝胶的研究进展
SiO_2气凝胶是一种新型的以分散介质为气体的凝胶材料,是由胶体粒子或高聚物分子相互聚结在一起,从而构成一种结构可控制的轻质纳米多孔材料。由于SiO_2气凝胶具有的纳米结构的多孔性和网络状,使其在宏观上表现出了纳米材料特有的界面效应和小尺寸效应,因此SiO_2气凝胶在力学、声学、热学、光学等方面的特性都显著优于其他普通材料,是一种被广泛应用的轻质纳米多孔材料。
硅胶是具有二维空间网状结构的一氧化硅干凝胶，属多孔性固体物质，孔分布范围广，具有很大的比表而，表而覆盖有大量的硅烷醇基因此(Si- OH)，具有一定的活性。使它成为干燥剂、吸附剂、催化剂及催化剂载体等，被广泛应用与工业生产中。
（纯度：99.9%-99.9999%）
1. 高纯氧化物：
一氧化硅、SiO，二氧化铪、HfO2，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、Nb2O5，三氧化二铝、Al2O3，三氧化二钪、Sc2O3，三氧化二铟、In2O3，二钛酸镨、Pr(TiO3)2，二氧化铈、CeO2，氧化镁、MgO，三氧化钨、WO3，氧化钐、Sm2O3，氧化钕、Nd2O3，氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化锑、Sb2O3，氧化钒、V2O5，氧化镍、NiO，氧化锌、ZnO，氧化铁、Fe2O3，氧化铬、Cr2O3，氧化铜、CuO等。
2. 高纯氟化物：
氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化钠、NaF，氟化钡、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化铅等。
4. 混合料：
氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料，氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化铝混合料，氧化镁氧化铝混合料，氧化铟氧化锡混合料，氧化锡氧化铟混合料，氟化铈氟化钙混合料等混合料
3. 高纯金属类：
高纯铝,高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝柱，高纯铬粒，高纯铬粉，铬条，高纯金丝，高纯金片，高纯金，高纯金粒，高纯银丝，高纯银粒，高纯银,高纯银片，高纯铂丝，高纯铪粉，高纯铪丝，高纯铪粒，高纯钨粒，高纯钼粒，高纯单晶硅，高纯多晶硅，高纯锗粒，,高纯锰粒，高纯钴，高纯钴粒，高纯钼，高纯钼片，高纯铌，高纯锡粒，高纯锡丝，高纯钨粒，高纯锌粒，高纯钒粒，高纯铁粒，高纯铁粉，海面钛,高纯锆丝，高纯锆，海绵锆,碘化锆,高纯锆粒，高纯锆块，高纯碲粒，高纯锗粒， 高纯钛片，高纯钛粒，高纯镍，高纯镍丝，高纯镍片，高纯镍柱，高纯钽片，高纯钽，高纯钽丝，高纯钽粒，高纯镍铬丝，高纯镍铬粒，高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.
5. 其他化合物：
钛酸钡，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化锌，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化锌，ZnSe，硫化镉。
6. 辅料：
钼片，钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
（纯度：99.9%-99.999%）
1.金属靶材：
1. 金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
氟化钕NbF3,氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。
硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CdS等真空镀膜材料。
高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯钽TA，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
备注：生产的真空镀膜材料均通过SGS认证，纯度高，溅点少，放气量小，薄膜均匀，附着力强，抗腐蚀性强，颜色均匀等优点。。
模具矽利康相关信息