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一氧化硅微粉末因极富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。用作光学玻璃和半导体材料的制备在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜面上,作为保护膜。半导体材料的制备。
1.将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合,C/SiO2混合摩尔比为2.0,混合物经减压加热处理,其温度为1600℃,压力为1.013 kPa,经还原反应生成SiO蒸气,通入氩气,将SiO蒸气凝结输送,制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
图XIV-10 一氧化硅的制备装置
其反应式:
2.图一氧化硅的制备装置如图所示,在反应管里放好氧化铝烧结块,用由两部分组成的镍制容器进行反应。在容器一侧的前端,放好微粉状硅粉和二氧化硅按1∶1摩尔比的混合物。把容器放到电炉里,在133.322×10-4Pa、1250~1300℃下加热4h,在镍管的低温部分出现冷凝物。这个反应是可逆反应,如果进一步降低压力,提高温度,平衡则向一氧化硅侧移动。反应生成物很容易从镍管中取出来,分离也很容易。剩余的棕色原料是结晶形硅,黄色黏稠状生成物是无定形二氧化硅,在低温部冷凝的黑棕色玻璃状物质是一氧化硅。
应贮存在阴凉、通风、干燥、清洁的库房内
二氧化硅的用途二氧化硅的用途很广。自然界里比较稀少的水晶可用以制造电子工业的重要部件、光学仪器和工艺品。二氧化硅是制造光导纤维的重要原料。一般较纯净的石英,可用来制造石英玻璃。石英玻璃膨胀系数很小,相...
可以耐高温又不容易破碎,人们在制作陶瓷的粘土里加了些金属粉,因此制成了金属陶瓷。 由一种或几种陶瓷相与金属相或合金所组成的复合材料。广义的金属陶瓷还包...
硅的用途:1、高纯的单晶硅是重要的半导体材料。2、金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。3、光导纤维通信,最新的现代通信手段。4、性能优异的硅有机化合物。5、由于有机硅独特的结构,以及优异特性,广泛应用于航空...
1. 性状:白色立方体或黄土色无定形粉末,在空气中热处理时,黄土色粉末变成白色粉末。2. 密度(g/mL,25℃):2.243. 相对蒸汽密度(g/mL,空气=1):2.18~2.24. 熔点(ºC):17025. 沸点(ºC,常压):>1700
6. 沸点(ºC,5.2kPa):未确定
7. 折射率:1.980
8. 闪点(ºC):1880
9. 比旋光度(º):未确定
10. 自燃点或引燃温度(ºC):未确定
11. 蒸气压(kPa,20ºC):未确定
12. 饱和蒸气压(kPa,60ºC):未确定
13. 燃烧热(KJ/mol):未确定
14. 临界温度(ºC):未确定
15. 临界压力(KPa):未确定
16. 油水(辛醇/水)分配系数的对数值:未确定
17. 爆炸上限(%,V/V):未确定
18. 爆炸下限(%,V/V):未确定
19. 溶解性:不溶于水,溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。
中文名称:一氧化硅
英文名称:Silicon(II) oxide
CAS号:10097-28-6
分子式:SiO
分子量:44.0838
R36/37/38:Irritating to eyes, respiratory system and skin. 刺激眼睛、呼吸系统和皮肤。;
S26:In case of contact with eyes, rinse immediately with plenty of water and seek medical advice.不慎与眼睛接触后,请立即用大量清水冲洗并征求医生意见。
S36:Wear suitable protective clothing. 穿戴适当的防护服。
CAS号:10097-28-6
MDL号:MFCD00151536
EINECS号:233-232-8
计算化学数据:
1、 疏水参数计算参考值(XlogP):未确定
2、 氢键供体数量:0
3、 氢键受体数量:1
4、 可旋转化学键数量:0
5、 拓扑分子极性表面积(TPSA):1
6、 重原子数量:2
7、 表面电荷:0
8、 复杂度:10
9、 同位素原子数量:0
10、 确定原子立构中心数量:0
11、 不确定原子立构中心数量:0
12、 确定化学键立构中心数量:0
13、 不确定化学键立构中心数量:0
14、 共价键单元数量:1
通常对水体是稍微有害的,不要将未稀释或大量产品接触地下水,水道或污水系统,未经政府许可勿将材料排入周围环境。
常温常压下稳定
避免光,明火,高温.不溶于水,溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。热和电的良好绝缘体。在空气中氧化形成二氧化硅膜而钝化。在氧气中燃烧。在温热的碱水溶液里生成氢气,形成硅酸盐而溶解。
PVC主要用途
PVC主要用途 PVC主要用途 PVC 制品一般可分为硬质和软质两大类。硬制品加工中不添加增塑剂,而软 制品则在加工时加入大量增塑剂。 PVC本来是一种硬性塑料,它的玻璃化温度为 80~85℃。加入增塑剂以后,可使玻璃化温度降低,便于在较低的温度下加工, 使分子链的柔性和可塑性增大,并可做成在常温下有弹性的软制品。一般软质 PVC塑料所加增塑剂的量为 PVC的 30%~70%。 PVC 在加工时添加了增塑剂、稳定剂、润滑剂、着色剂、填料之后,可加工 成各种型材和制品。 PVC的具体用途如下。 1、PVC型材、异型材 型材、异型材是我国 PVC消费量最大的领域,约占 PVC总消费量的 25%左 右,主要用于制作门窗和节能材料, 目前其应用量在全国范围内仍有较大幅度增 长。 2、PVC管材 PVC 管材是 PVC第二大消费领域,约占其消费量的 20%左右。在我国, P
耐酸砖的主要成分是二氧化硅
耐酸砖的主要成分是二氧化硅 ,它在高温焙烧下形成大量的多铝红柱石 ,这是一种耐酸性能很高的物质 . 由于耐酸砖结构紧密 ,吸水率小 ,所以在常温下也可耐任何浓度的碱性介质 ,但不耐温度高的熔融碱 . 耐酸砖含有二氧化硅 70% 以上 ,经烧结而成 ,在化学工业中多应用于砌酸沟、酸井、贮酸库及载酸大的受冲 击地面。 耐酸砖在化学工业中应用极广,主要的优点是耐酸,它的特点如下: 1、具有优良的化学稳定性,耐酸性能强,还具有一定程度的耐碱性能。 2、尺寸精确,表面光洁平滑。 3、硬度高,耐急剧温度变化。 1.产品特性: (1)耐酸砖板具有耐酸度高、耐温耐酸效果好,吸水率低、在常温下不易氧化、不易被介质污染等性。 ( 2)除氢氟酸以及热磷酸外,对湿氯、盐水、盐酸、硫酸、硝酸等酸类以及在常温下的任何浓度的碱类均 有优良的抗腐蚀作用。 2.产品应用 我公司生产的耐酸砖板广泛应用于石油、化工、制药、食
硅胶是具有二维空间网状结构的一氧化硅干凝胶,属多孔性固体物质,孔分布范围广,具有很大的比表而,表而覆盖有大量的硅烷醇基因此(Si- OH),具有一定的活性。使它成为干燥剂、吸附剂、催化剂及催化剂载体等,被广泛应用与工业生产中。
(纯度:99.9%-99.9999%)
1. 高纯氧化物:
一氧化硅、SiO,二氧化铪、HfO2,二硼化铪,氯氧化铪,二氧化锆、ZrO2,二氧化钛、TiO2,一氧化钛、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二钛、Ti2O3,五氧化三钛、Ti3O5,五氧化二钽、Ta2O5,五氧化二铌、Nb2O5,三氧化二铝、Al2O3,三氧化二钪、Sc2O3,三氧化二铟、In2O3,二钛酸镨、Pr(TiO3)2,二氧化铈、CeO2,氧化镁、MgO,三氧化钨、WO3,氧化钐、Sm2O3,氧化钕、Nd2O3,氧化铋、Bi2O3,氧化镨、Pr6O11,氧化锑、Sb2O3,氧化钒、V2O5,氧化镍、NiO,氧化锌、ZnO,氧化铁、Fe2O3,氧化铬、Cr2O3,氧化铜、CuO等。
2. 高纯氟化物:
氟化镁、MgF2,氟化镱、YbF3,氟化钇、LaF3,氟化镝、DyF3,氟化钕、NdF3,氟化铒、ErF3,氟化钾、KF,氟化锶、SrF3,氟化钐、SmF3,氟化钠、NaF,氟化钡、BaF2,氟化铈、CeF3,氟化铅等。
4. 混合料:
氧化锆氧化钛混合料,氧化锆氧化钽混合料,氧化钛氧化钽混合料,氧化锆氧化钇混合料,氧化钛氧化铌混合料,氧化锆氧化铝混合料,氧化镁氧化铝混合料,氧化铟氧化锡混合料,氧化锡氧化铟混合料,氟化铈氟化钙混合料等混合料
3. 高纯金属类:
高纯铝,高纯铝丝,高纯铝粒,高纯铝片,高纯铝柱,高纯铬粒,高纯铬粉,铬条,高纯金丝,高纯金片,高纯金,高纯金粒,高纯银丝,高纯银粒,高纯银,高纯银片,高纯铂丝,高纯铪粉,高纯铪丝,高纯铪粒,高纯钨粒,高纯钼粒,高纯单晶硅,高纯多晶硅,高纯锗粒,,高纯锰粒,高纯钴,高纯钴粒,高纯钼,高纯钼片,高纯铌,高纯锡粒,高纯锡丝,高纯钨粒,高纯锌粒,高纯钒粒,高纯铁粒,高纯铁粉,海面钛,高纯锆丝,高纯锆,海绵锆,碘化锆,高纯锆粒,高纯锆块,高纯碲粒,高纯锗粒, 高纯钛片,高纯钛粒,高纯镍,高纯镍丝,高纯镍片,高纯镍柱,高纯钽片,高纯钽,高纯钽丝,高纯钽粒,高纯镍铬丝,高纯镍铬粒,高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.
5. 其他化合物:
钛酸钡,BaTiO3,钛酸镨,PrTiO3,钛酸锶,SrTiO3,钛酸镧,LaTiO3,硫化锌,ZnS,冰晶石,Na3AlF6,硒化锌,ZnSe,硫化镉。
6. 辅料:
钼片,钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
(纯度:99.9%-99.999%)
1.金属靶材:
1. 金属靶材:
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3,氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。
氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。
硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。
高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯钽TA,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
备注:生产的真空镀膜材料均通过SGS认证,纯度高,溅点少,放气量小,薄膜均匀,附着力强,抗腐蚀性强,颜色均匀等优点。。