真空蒸镀包装材料、电容器金属化镀膜、显示屏镀层、烫金镀层、防伪标志镀层、反光镀层以及纸张、纺织品镀铝等，主要蒸镀铝铜银金等。

19世纪的石墨舟在很多行业已经淘汰，20世纪后期比较流行的是氮化硼二硼化钛复合导电陶瓷加工的产品。由于氮化硼具有极高的绝缘性，二硼化钛具有极高的导电性，根据2种材料的不同配比，可以很容易控制所制产品的电阻率。

但是国内原材料的制备工艺落后，传统方法所制备的氮化硼结晶度低，杂质多，纯度低，而且在制备过程中产生大量有害气体和废液，对环境和个人造成严重危害。中央及地方政府预计将在2015年前给予取缔。而二硼化钛的制备，国内均采用碳热还原法生产，所用设备为低效率的碳管炉，炉子和工艺的局限导致在1600度所制得的二硼化钛结晶颗粒极小，纯度只能达到90%左右，其杂质含量十分惊人。所制得的蒸发舟电阻极其不稳定，耐腐蚀性能极差。

国外氮化硼，二硼化钛制备工艺先进，纯度可达99%以上，以德国为代表的蒸发舟制造商强大的研究中心，对基础原材料的制备成果显著。所制得的蒸发舟寿命长，耐腐蚀，蒸发效率高，蒸发质量有保证。

值得留意的是，2011年国内已经有个别公司掌握了国外的先进技术，并在此基础上针对我国工业结构现状，独家研发了一整套先进生产设备，从原材料的处理烧结加工，到热压加工。该公司已经成为高品质氮化硼，二硼化钛，碳化硼的国内唯一生产基地。预计在政府和公司的高度配合下，2013年将建成年产高纯陶瓷粉体500吨（其中自用150吨，国内销售100吨，出口250吨），年产导电陶瓷蒸发舟150万只的规模。

国内由于生产工艺落后对于国际流行的2组分蒸发舟无法生产。只能做单一的3组分蒸发舟，其配方是在2组分基础上添加一定比例的氮化铝，此种配方密度大，用料多，只局限于传统行业使用，而对于蒸发质量要求严格的产品却无法满足。而有的公司在3组分基础上再次添加钨，碳酸钙，氧化钙，氧化锆等的做法，完全走入组分误区，对质量控制更是无从下手。

2组分在国际上普遍运用，在于从质量上和效率上的客户认可。由于组成只有氮化硼和二硼化钛，所以在生产过程中质量更可控。电阻率十分精准。2组分的蒸发效率是任何其他组分无法媲美的。2组分密度低，用料少，生产加工容易。在人类大力保护环境的今天，低碳环保已经是我们每一个人的责任。2100433B

塑料薄膜的镀铝工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。

真空蒸镀原理

将被镀薄膜基材（筒状）装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在25～500nm，镀铝薄膜的宽度为800mm～2000mm。

蒸镀方法：在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。

（1）直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是要形成表面光亮的金属膜，必须要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，要采用直接蒸镀法，在镀铝前需先进行表面涂布。另外，在蒸镀过程中基材的挥发物要少。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性，它主要适合于蒸镀塑料薄膜，也可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有一定的限度。

(2)转移法。是借助载体膜(真空镀铝膜)将金属铝层转移到基材的表面而形成镀铝薄膜。转移法是在直接蒸镀法的基础上发展起来的新工艺，它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性，尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝，也可用于塑料薄膜的镀铝。国外已将转移法应用到布、纤维、皮革等基材的镀铝产品上。我国主要采用转移法生产镀铝纸。

镀铝薄膜生产工艺流程：

基材放卷→抽真空→加热蒸发舟→送铝丝→蒸镀→冷却→测厚→展平→收卷