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真空电弧离子注入机技术指标

真空电弧离子注入机技术指标

极限真空优于5*10^-4Pa;真空室尺寸:Φ600mm球形;抽速:26分钟达到1×10-3Pa;钛靶和碳靶各2个,均为Ф100mm;弧电源电流60~150A连续可调;脉冲负偏压0~1000V可调,占空比10%--90%可调;离子源平均引出电流/电压:10.7mA/76KV;束斑直径Ф150mm。

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真空电弧离子注入机造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

故障电弧

  • 品种:电弧探测器;规格型号:HS-E810;产品说明:故障电弧;
  • 上海华宿
  • 13%
  • 哈尔滨消安电气有限公司
  • 2022-12-08
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注入植筋胶

  • 品种:注入植筋胶;等级:A级;规格:380ml;
  • 大筑
  • 13%
  • 抚顺市军威新型建筑材料有限公司
  • 2022-12-08
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故障电弧探测装置

  • 品种:断路器附件;型号:SFAP-32-3CK;说明:故障报警:当故障电弧探测器检测到负载线路发生故障时,探测器点亮报警指示灯,并发出连续的
  • 新驰
  • 13%
  • 西安新驰电气有限公司
  • 2022-12-08
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故障电弧探测装置

  • 品种:断路器附件;型号:SFAP-32-1CK;说明:故障报警:当故障电弧探测器检测到负载线路发生故障时,探测器点亮报警指示灯,并发出连续的
  • 新驰
  • 13%
  • 西安新驰电气有限公司
  • 2022-12-08
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离子体空气消毒

  • FX-J050、173×48×37mm
  • 绿粤
  • 13%
  • 深圳市绿粤生态科技有限公司
  • 2022-12-08
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真空吸湿机

  • 不含薄膜
  • 台班
  • 广州市2010年4季度信息价
  • 建筑工程
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真空吸湿机

  • 不含薄膜
  • 台班
  • 汕头市2010年2季度信息价
  • 建筑工程
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真空吸湿机

  • 不含薄膜
  • 台班
  • 广州市2009年3季度信息价
  • 建筑工程
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真空吸湿机

  • 不含薄膜
  • 台班
  • 汕头市2009年3季度信息价
  • 建筑工程
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真空吸湿机

  • 不含薄膜
  • 台班
  • 汕头市2009年1季度信息价
  • 建筑工程
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经济技术指标

  • 40层
  • 04.2m层高
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2009-05-12
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电弧喷铝

  • 150μm
  • 2000m²
  • 3
  • 中档
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2022-10-18
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电弧

  • YLEB-35cal
  • 2179套
  • 1
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2015-09-09
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离子弧切刻机

  • LGK-200
  • 6台
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-10-21
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离子弧切刻机

  • LGK8-63
  • 5台
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 不含运费
  • 2015-07-21
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真空电弧离子注入机主要功能

薄膜沉积。 2100433B

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真空电弧离子注入机技术指标常见问题

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真空电弧离子注入机技术指标文献

半导体工艺之离子注入答辩 半导体工艺之离子注入答辩

半导体工艺之离子注入答辩

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大小:125KB

页数: 5页

半导体离子注入工艺 09电科 A柯鹏程 0915221019 离子注入法掺杂和扩散法掺杂对比来说,它的加工温度低、容易制作浅结、均匀的 大面积注入杂质、易于自动化等优点。当前,离子注入法已成为超大规模集成电路 制造中不可缺少的掺杂工艺。离子注入是一种将带点的且具有能量的粒子注入衬底 硅的过程。注入能量介于 1eV到 1MeV之间,注入深度平均可达 10nm~10um。相对 扩散工艺,粒子注入的主要好处在于能更准确地控制杂质参杂、可重复性和较低的 工艺温度。 1.离子注入原理 : 离子是原子或分子经过离子化后形成的,即等离子体,它带有一定量的电荷。可通 过电场对离子进行加速,利用磁场使其运动方向改变,这样就可以控制离子以一定 的能量进入 wafer 内部达到掺杂的目的。 离子注入到 wafer 中后,会与硅原子碰撞而损失能量, 能量耗尽离子就会停在 wafer 中某位置。离子通过与硅原子

Ta离子注入对铝青铜耐磨性能的影响 Ta离子注入对铝青铜耐磨性能的影响

Ta离子注入对铝青铜耐磨性能的影响

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页数: 3页

采用俄歇电子能谱仪分析Ta离子注入铝青铜合金的Ta、Cu和Al元素分布,利用显微硬度仪测量注入Ta离子铝青铜的显微硬度,用摩擦磨损试验机分析QAl9-4铝青铜的摩擦系数和磨损质量损失。结果表明:随Ta离子注入剂量的增加,铝青铜中的Ta原子浓度升高,离子注入深度超过100 nm,显微硬度显著增高,在距合金表面约60 nm深处硬度达到最大值;铝青铜的摩擦系数显著降低,单位时间内磨损质量损失显著减小,因此明显提高了铝青铜的耐磨性能。

真空电弧凝壳炉真空电弧重熔

在真空电弧重熔过程中,金属的熔化和凝固过程同时进行,由子在水冷铜结晶器内存在大的温度梯度,在这种条件下凝固会形成粗大晶体。而在真空凝壳炉熔炼中,金属的熔化和浇注完全分开进行,由于金属液面没有电极的阳极辉点,热场相对均匀,加之熔池发生搅动,促使铸件凝固时长大的晶体前沿形成过冷金属液,在该处出现补充的结晶中心,从而可以获得细晶组织,这是真空凝壳炉较真空电弧炉熔炼的又一优点。真空凝壳炉熔炼的铸件具有较高的机械性能。例如一般真空电弧炉熔炼的MT(Mo 0.5%Ti)合金的延伸率占为1%-2%,而用真空凝壳炉熔炼的同一合金的占为3%~5% 。

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电弧电压真空电弧特性

高速开关的电弧电压决定了故障电流转移的时间,研制的高速开关断口采用的是17.5kV真空灭弧室。真空电弧有10kA 以下的扩散型和10kA以上的集聚型两种形态。混合型断路器电弧电流一般只有几千安,属于扩散型电弧。对扩散型真空电弧电压起主导作用的是阴极压降,而阴极压降主要由触头材料决定。触头材料的沸点温度与热导率的乘积越大,阴极压降越高。因此为提高电弧电压,缩短电流换流时间,可以选取高沸点和热导率的触头材料。除此之外,也可通过外加磁场的方式提高电弧电压,电弧电压最高可达数千伏。

高速开关采用的是宝光真空灭弧室厂生产的17.5kV/1.250A 的真空灭弧室,触头开距为(9±1)mm,运动部分质量为1.1kg。当电流从4kA增大到10kA时铜钨触头的真空电弧电压基本在30V左右保持稳定,当电流下降时电弧电压有所降低。

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真空电弧凝壳炉简史

1950年美国发明了第一台小型(4.5kg)真空电弧凝壳炉。后来各国又出现了电子束凝壳炉、等离子体凝壳炉等,但常用的是真空电弧凝壳炉,简称真空凝壳炉 。

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