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投射式电容屏的开发难点

2018/06/19156 作者:佚名
导读: 1、芯片技术:目前主流的是 cypress 方案单面棱形结构的 pattern 电极。 2、触控面板技术:需要进行多次镀膜、光刻和蚀刻,工艺相当 复杂,且良率难以提高,还有许多工艺细节需要去攻关和优 化。 3、开发周期:同种芯片,不同的触控电极设计都会影响到最终 的触控效果,灵敏度、准确率、抗干扰等。因此需要进行不 断的优化和选材,如 ito 方块电阻的选择,线宽线距设计, 回路电阻的控制等

1、芯片技术:目前主流的是 cypress 方案单面棱形结构的 pattern 电极。 2、触控面板技术:需要进行多次镀膜、光刻和蚀刻,工艺相当 复杂,且良率难以提高,还有许多工艺细节需要去攻关和优 化。 3、开发周期:同种芯片,不同的触控电极设计都会影响到最终 的触控效果,灵敏度、准确率、抗干扰等。因此需要进行不 断的优化和选材,如 ito 方块电阻的选择,线宽线距设计, 回路电阻的控制等,开发周期相当的长 4、开发成本高:由于需要进行反复的调试来进行最佳参数的选 取,这个过程不仅长,而且成本会非常之高,常规的设计, 光罩就得三块,按 1.5 万每张计算,如设计上稍有更改就得 重新设计光罩。 刻胶、 影液、 洗液、 璃基材、 光 显 清 玻 sputter 都非常之贵,动力成本也相当高。 5、人才难寻:投射式电容屏涉及到芯片技术和触控面板技术, 懂芯片不懂触控面板流程,设计时不能客观地考虑到制程上 的影响,全理论的设计是行不通的。懂流程的则不懂芯片技 术,预估不到制程上的变异会给驱动带来怎样的影响,潜在 的失效会造成性能不稳,而又无法理解其发生所在。所以需 要建立一个完整的团队,芯片技术的、面板前制程技术的、 后制程贴合的各工段相关的技术团队才能加快整个开发进 度,缺一不可,除非是全才了。

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