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光学玻璃表面烧蚀的清洗方法

2018/09/06141 作者:佚名
导读:1、光学玻璃表面烧蚀问题及成因 目前光学玻璃加工过程中最不好解决的问题是光学玻璃表面的烧蚀。那么学玻璃烧蚀是怎样发生的呢?光学玻璃的主要成分为硅酸盐,其遇水或水蒸汽会发生水解作用,形成烧蚀。 水解作用几乎贯穿了光学玻璃的整个加工过程,无论是

1、光学玻璃表面烧蚀问题及成因

目前光学玻璃加工过程中最不好解决的问题是光学玻璃表面的烧蚀。那么学玻璃烧蚀是怎样发生的呢?光学玻璃的主要成分为硅酸盐,其遇水或水蒸汽会发生水解作用,形成烧蚀。

水解作用几乎贯穿了光学玻璃的整个加工过程,无论是研磨、求芯等工序中或工序间,均会程度不一地发生。水解作用的表现形式,或者说加剧水解程度的外在条件有很多,比如碱性腐蚀、盐类腐蚀、温度腐蚀(包括清洗剂温度、烘干温度、室内温度)等。

现以研磨工序为例,说明碱性环境以及加工方法本身是如何加速水解作用的。通常,以CeO2(二氧化铈)为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的,但在进行研磨加工时,研磨液是由水加研磨粉配制而成,因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的,一般呈碱性(pH>7)。如前所述,玻璃遇水会产生水解反应,如方程式(1),而生成的H2SiO3(硅酸)呈凝胶状态,附在玻璃表层起保护作用,阻止反应继续进行,同时一部分H2SiO3(硅酸)分解,生成的SiO2(二氧化硅)附在玻璃表面也可以减缓水解反应,起到保护作用,化学反应方程式如下:

H2SiO3(硅酸)→2H2O+ SiO2(二氧化硅) (5)

随着玻璃表面的研磨抛光,表层的SiO2(二氧化硅)和大部分的H2SiO3凝胶被去除,打破了方程式(1)、(5)的平衡,使方程式(1)、(5)的反应更深入地向右进行,生成更多的碱性物质,导致研磨液的pH值持续上升,其中的碱性液体与H2SiO3凝胶反应,如方程式(4),如此循环加速水解反应,导致玻璃表面烧蚀。

2、表现及清洗对策

表面烧蚀的玻璃在经过清洗、漂洗、脱水和干燥处理以后,通常会有白色雾状残留,使用丙酮等擦拭溶剂可以去除,在强光照射下可见块状印痕,印痕因玻璃材质不同呈不同颜色,一般为蓝色或灰色。这是由于玻璃表面烧蚀后,相应位置的折射率发生变化所致。

由于光学玻璃的表面精度要求极高,有烧蚀状况的玻璃会出现镀膜不良,影响使用,故必须在镀膜前予以妥当处理。通常可采用过碱性清洗的方式解决烧蚀问题。

过碱性清洗,顾名思义,是采用经特殊方法配置而成的强碱性清洗剂,将玻璃镜片在一定温度下,浸泡一定的时间(视镜片材质而定),使玻璃表面产生均匀腐蚀,生成一层极薄的硅酸盐及硅酸等,同时通过控制时间和温度,使此种腐蚀的深度极小(一般为十几至几十纳米),不会影响镜片表面精度。通过外力(超声波)清洗,使玻璃表面因腐蚀而松动的表层脱落,达到去除因烧蚀产生的块状印痕的目的。

综 述:

目前多数光学玻璃生产厂家都会进行研磨后和镀膜前两次清洗,其中研磨后主要清洗沥青(漆片)和研磨粉,镀膜前主要清洗求芯油(磨边油)、指印和灰尘。所采用的清洗工艺也可分为溶剂清洗和半水基清洗两种,两者最大的区别在于前者对无机污染物的清洗完全依赖水基清洗剂,后者所使用的半水基清洗剂对于无机污染物的清洗效果也较好;两者的共同点是对于有机污染物都具有良好的清洗效果,并采用相同的脱水及干燥方式,同时对镜片的安全性极高。

对于光学玻璃加工过程中不可避免的表面烧蚀问题,其成因是由于光学玻璃的主要成分——金属氧化物水解反应导致的,通常可采用过碱性清洗的方法,并通过外力(超声波)的作用消除烧蚀印痕。

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