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半导体材料表面超精细抛光新技术研究项目摘要

半导体材料表面超精细抛光新技术研究项目摘要

拟利用约束刻蚀剂层(CELT)的原理,研究出对半导体材料表面进行超精细抛光的新方法和新ひ"sup--normal" data-sup="1" data-ctrmap=":1,"> [1]

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半导体材料表面超精细抛光新技术研究造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

抛光

  • 巴塞纳 垂直微粉升级版 一类 LW68 规格1200×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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抛光

  • 米若拉 一类 LW83 规格600×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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抛光

  • 原石印象 垂直布微粉 三类 LW9 规格1200×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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抛光

  • 丝绸之路 半透立微粉 一类 Lw28 规格1000×1000
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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抛光

  • 水岸春天 一类 LW66 规格800×800
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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自发电一焊机

  • 305A
  • 台班
  • 韶关市2010年8月信息价
  • 建筑工程
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二氧化碳气保护焊机

  • 电流250A
  • 台班
  • 汕头市2012年1季度信息价
  • 建筑工程
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二氧化碳气保护焊机

  • 电流250A
  • 台班
  • 汕头市2011年4季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

二氧化碳气保护焊机

  • 电流250A
  • 台班
  • 汕头市2011年2季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

二氧化碳气保护焊机

  • 电流250A
  • 台班
  • 广州市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
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半导体陶瓷

  • 将面板旋转到任一半导体上,旋转按钮缩小、放大,观察陶瓷.
  • 1项
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-10-24
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半导体陶瓷

  • 将面板旋转到任一半导体上,旋转按钮缩小、放大,观察陶瓷.
  • 1项
  • 1
  • 高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-09-14
查看价格

半导体陶瓷

  • 将面板旋转到任一半导体上,旋转按钮缩小、放大,观察陶瓷.
  • 1项
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-09-16
查看价格

半导体陶瓷

  • 将面板旋转到任一半导体上,旋转按钮缩小、放大,观察陶瓷.
  • 1项
  • 1
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-08-15
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半导体泵浦全固态激光器

  • 1.名称:半导体泵浦全固态激光器2.激光功率:红光(638nm)/200mW
  • 2套
  • 3
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2022-04-12
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半导体材料表面超精细抛光新技术研究基本信息

批准号

60076002

项目名称

半导体材料表面超精细抛光新技术研究

项目类别

面上项目

申请代码

F0401

项目负责人

孙建军

负责人职称

教授

依托单位

厦门大学

研究期限

2001-01-01 至 2003-12-31

支持经费

17(万元)

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半导体材料表面超精细抛光新技术研究项目摘要常见问题

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半导体材料表面超精细抛光新技术研究项目摘要文献

宽带隙半导体材料SiC研究进展及其应用 宽带隙半导体材料SiC研究进展及其应用

宽带隙半导体材料SiC研究进展及其应用

格式:pdf

大小:834KB

页数: 10页

 第 30 卷第 3 期 硅 酸 盐 学 报 Vol. 30 , No. 3  2 0 0 2 年 6 月 JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY J une , 2 00 2 综合评述    宽带隙半导体材料 SiC研究进展及其应用 王玉霞,何海平,汤洪高 (中国科学技术大学材料科学与工程系 , 合肥  230026 ) 摘 要 :SiC 是第 3代宽带隙半导体的核心材料之一 , 具有极为优良的物理化学性能 , 应用前景十分广阔 . 本文综合介绍 SiC的基本特性 , 材 料的生长技术 (包括体单晶生长和薄膜外延生长技术 ) , SiC基器件的研发现状 , 应用领域及发展前景 . 同时还介绍了作者用脉冲激光淀积法 在 Si衬底上制备出单晶 4H - SiC薄膜的研究结果 . 关键词 : 碳化硅 ; 体单晶生长 ; 薄膜 ; 器件 中图分类号 : TN

半导体材料7半导体照明工程材料 半导体材料7半导体照明工程材料

半导体材料7半导体照明工程材料

格式:pdf

大小:834KB

页数: 51页

半导体材料7半导体照明工程材料

表面抛光简介

表面抛光是利用机械、化学或电化学作用,在抛光机或砂带磨床进行的光整合加工方法。

加工时,抛光膏涂在高速旋转的软弹性抛光轮或砂带上,利用剧烈摩擦,产生高温,使加工面上形成极薄溶流层,即可填平加工面上的微观凹凸不平,获得光亮的镜面。表面抛光适于镀层表面修饰。

利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。

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表面整平机械抛光

机械抛光是利用抛光轮与抛光膏等精细磨料,对管件外表面进行轻微切削和研磨,除去管件表面的细微不平,以达到整平表面、提高光洁度的目的。抛光并不切削金属,只是抛去表面氧化膜。

表面整平抛光操作

(1)把抛光轮的圆周速度调节到20m/s~30m/s(形状简单,表面较硬的转速可大些)。

(2)根据被抛管件的材质,选用合适的抛光膏。抛光膏由粘合剂与磨料组成,抛光时与管件磨擦所产生的热量,使抛光膏的粘合剂熔化,起到抛光作用。

(3)把管件压向抛光轮适当部位,其用力大小、抛光时间长短、手的动作,全凭抛光人员的实践经验。

表面整平适用范围

抛光用于镀前表面预处理,也用于镀后精加工,后者抛光耗损占镀层质量的5%~20%。

表面整平抛光轮和抛光膏

(1)抛光轮的种类见图5。

(2)抛光膏的组成及应用范围见图6。

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表面抛光概述

加工时,抛光膏涂在高速旋转的软弹性抛光轮或砂带上,利用剧烈摩擦,产生高温,使加工面上形成极薄溶流层,即可填平加工面上的微观凹凸不平,获得光亮的镜面。表面抛光适于镀层表面修饰。

利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。

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