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①电路中在电动势的驱动下,确实存在电荷在电路中流动,并因此引起电阻的发热。而磁路中磁通是伴随着电流存在的。对于恒定电流,在磁导体中,并没有物质或能量在流动,因此不会在磁导体中产生损耗。即使在交变磁场中,磁导体的损耗也不是磁通“流通”产生的。
②电路中电流限定在铜导线和其他导电元件内,这些元件的电导率高,比电路的周围材料的电导率一般高1012倍以上。由于没有磁绝缘材料,周围介质的磁导率只比组成磁路材料的磁导率低几个数量级。
③导体的电导率与导体流过电流无关,而磁路中磁导率是与磁通密度有关的非线性参数。
④由于有散磁通存在,即使均匀绕制,也不能做到全耦合,漏磁通一般很难用分析方法求得,通常采用经验公式计算。
⑤磁场较复杂,交流激励的磁场在其周围导体中产生涡流效应,磁路计算是近似的。
设永磁体的总磁通为Φ,在空隙处的有用磁通和漏磁通分别为ΦU和ΦI,Φ=ΦUΦI。它们都受到磁通势F的驱动。如用电路中的电流和电压相对照,Φ相当电流,F相当电压,而F/ΦI相当损耗电阻,即磁路中的磁阻。
在磁路设计中,降低漏磁是提高磁效率的关键。
磁阻就是磁通通过磁路时所受到的阻碍作用,用Rm表示。磁路中磁阻的大小与磁路的长度l成正比,与磁路的横截面积S成反比,并与组成磁路的材料性质有关,且Rm=l/(μS)。
μ为磁导率,单位H/m,长度l和截面积S的单位分别为m和m2。因此,磁阻Rm的单位为1/亨(1H-1)。由于磁导率μ不是常数,所以Rm也不是常数。
一段磁路的磁位差和磁通量的比值。磁阻由该磁路的几何形状、尺寸、材料的磁特性等因素决定。在国际单位制(SI)中,磁阻的单位是每亨[利](/H)。
图示一段磁路。它有均匀长方形截面,磁感应线和截面垂直。令截面上的磁通量是Φ,磁路两端的磁位差是Um,则这段磁路的磁阻Rm定义为
上式也称作磁路中的欧姆定律。若图示磁路由同一种材料制成,磁阻Rm也可用下式计算
其中A、l分别是该段磁路的截面积和长度(见图);μ是磁路材料的磁导率。如果材料是非铁磁物质,一般认为μ等于真空磁导率μ0,是常值,由上式可方便地计算磁阻。如果材料是铁磁物质,μ不是常数,一般不计算磁阻;磁阻概念只在作定性分析时使用。
两段磁路串联时,总磁阻Rm是每段磁路的磁阻(Rm1和Rm2)之和,即
磁阻的倒数称作磁导。在SI制中,它的单位是亨利(H)。用Λ代表磁导,磁导的定义式便是
也可用下式计算图示一段磁路的磁导
1.限压电阻是此电阻在这个电路中的作用是降压用。简单的说,限压电阻是串连在电路中,限制太大的电流通过。2.限流电阻是电阻RL是负载电阻,R为稳压调整电阻也称为限流电阻,D为稳压管.按稳压电路设计准则,...
电阻丝是电阻的一种,电阻丝指某种合金线制成的。而电阻的范围要广的多,水泥电阻、电阻丝等等,都叫电阻,另外,电阻也表示电阻的大小 。比如可以说”电阻丝是有电阻的,其电阻大小是××Ω。“你就理解成:电阻丝...
相电阻是矢量有方向,线电阻是标量无方向。比如电阻和电容的方向就不同,不能直接大小相加,要通过矢量加减
磁阻效应(Magnetoresistance Effects)的定义:是指某些金属或半导体的电阻值随外加磁场变化而变化的现象。金属或半导体的载流子在磁场中运动时,由于受到电磁场的变化产生的洛伦兹力作用,产生了磁阻效应。
若外加磁场与外加电场垂直,称为横向磁阻效应;若外加磁场与外加电场平行,称为纵向磁阻效应。一般情况下,载流子的有效质量的驰豫时时间与方向无关,则纵向磁感强度不引起载流子偏移,因而无纵向磁阻效应。
磁阻效应主要分为:常磁阻,巨磁阻,超巨磁阻,异向磁阻,穿隧磁阻效应等
常磁阻(OrdinaryMagnetoresistance,OMR)
对所有非磁性金属而言,由于在磁场中受到洛伦兹力的影响,传导电子在行进中会偏折,使得路径变成沿曲线前进,如此将使电子行进路径长度增加,使电子碰撞机率增大,进而增加材料的电阻。磁阻效应最初于1856年由威廉·汤姆森,即后来的开尔文爵士发现,但是在一般材料中,电阻的变化通常小于5%,这样的效应后来被称为“常磁阻”(ordinarymagnetoresistance,OMR)。
巨磁阻(GiantMagnetoresistance,GMR)
所谓巨磁阻效应,是指磁性材料的电阻率在有外磁场作用时较之无外磁场作用时存在巨大变化的现象。巨磁阻是一种量子力学效应,它产生于层状的磁性薄膜结构。这种结构是由铁磁材料和非铁磁材料薄层交替叠合而成。当铁磁层的磁矩相互平行时,载流子与自旋有关的散射最小,材料有最小的电阻。当铁磁层的磁矩为反平行时,与自旋有关的散射最强,材料的电阻最大。
超巨磁阻(ColossalMagnetoresistance,CMR)
超巨磁阻效应(也称庞磁阻效应)存在于具有钙钛矿(Perovskite)ABO3的陶瓷氧化物中。其磁阻变化随着外加磁场变化而有数个数量级的变化。其产生的机制与巨磁阻效应(GMR)不同,而且往往大上许多,所以被称为“超巨磁阻”。 如同巨磁阻效应(GMR),超巨磁阻材料亦被认为可应用于高容量磁性储存装置的读写头。不过,由于其相变温度较低,不像巨磁阻材料可在室温下展现其特性,因此离实际应用尚需一些努力。
异向磁阻(Anisotropicmagnetoresistance,AMR)
有些材料中磁阻的变化,与磁场和电流间夹角有关,称为异向性磁阻效应。此原因是与材料中s轨域电子与d轨域电子散射的各向异性有关。由于异向磁阻的特性,可用来精确测量磁场。
穿隧磁阻效应(Tunnel Magnetoresistance,TMR)
穿隧磁阻效应是指在铁磁-绝缘体薄膜(约1纳米)-铁磁材料中,其穿隧电阻大小随两边铁磁材料相对方向变化的效应。此效应首先于1975年由MichelJulliere在铁磁材料(Fe)与绝缘体材料(Ge)发现;室温穿隧磁阻效应则于1995年,由TerunobuMiyazaki与Moodera分别发现。此效应更是磁性随机存取内存(magneticrandomaccessmemory,MRAM)与硬盘中的磁性读写头(readsensors)的科学基础。
关于四线电阻触摸屏与五线电阻屏的小区别
关于四线电阻触摸屏与五线电阻屏的小区别 随着触摸应用技术的日益普及, 多点触控已经日渐成为市场新焦点 , 无论使 用者是否真有多点需求 , 许多公司在触摸屏的选型上如果不去参考或了解多点 的功能及趋势 , 这个选型很可能被认为是不够专业的 . 要实现多点功能的触摸屏已经越来越多 , 然而大家的注意力仍集中在投射 电容 (Projected Capacitive), 这不得不归功于苹果 iPhone 的风采 . 事实上早有 许多厂商跟使用者前仆后继的投入投射电容屏的研发生产及导入 , 但许许多多 的困难与阻碍横在眼前 , 造成完美演出的比率实在不高 . 值此同时 , 电阻式多点 触摸屏也已经悄悄的逼进市场的聚光灯下 . 由于拥有稳定不受干扰的特性 , 加上 容易量产的好处 , 整体购得成本又远低于投射电容 , 虽然透光度较低 , 但整体比 较起来 , 仍是暇不掩瑜 , 值得各类中小尺寸多点
色环电阻快速识别法
色环电阻快速识别法 (1)熟记第一、二环每种颜色所代表的数。可这样记忆:棕 1,红 2,橙 3,黄 4,绿 5, 蓝 6,紫 7,灰 8,白 9,黑 0。这样连起来读,多复诵几遍便可记住。 记准记牢第三环颜色所代表的 阻值范围,这一点是快识的关键。具体是: 金色:几点几 Ω 黑色:几十几 Ω 棕色:几百几十 Ω 红色:几点几 kΩ 橙色:几十几 kΩ 黄色:几百几十 kΩ 绿色:几点几 MΩ 蓝色:几十几 MΩ 从数量级来看,在体上可把它们划分为三个大的等级,即:金、黑、棕色是欧姆级的;红橙 黄色是千欧级的;绿、蓝色则是兆欧级的。这样划分一下是为了便于记忆。 (3)当第二环是黑色时,第三环颜色所代表的则是整数,即几,几十,几百 kΩ等,这是 读数时的特殊情况,要注意。例如第三环是红色,则其阻值即是整几 kΩ的。 (4)记住第四环颜色所代表的误差,即:金色为 5%;银色为 1
磁阻,是一个与电路中的电阻类似的概念。电流总是沿着电阻最小的路径前进;磁通量总是沿着磁阻最小的路径前进。磁阻与电阻一样,都是一个标量。
磁阻效应是指电阻在磁场中增加的现象。磁阻效应在半导体中尤为显著。效应的大小通常用电阻的改变量和电阻本身的比值来量度:
在磁场中,由于Lorentz力的作用,一般来说载流子的运动将发生偏转,这是产生磁阻效应的原因。但在等能面为球形的简单能带的情形下,纵向磁阻为零。因为在此情形下,漂移速度与磁场平行. 磁场的存在并不改变载流子的漂移运动,但横向磁阻一般不为零。在横向磁场下,作漂移运动的载流子同时受到Lorentz力和由Hall电场产生的静电力的作用。这两种力的作用在总体上相互抵消,使横向电流为零。 但在动量弛豫时间依赖于能量的情形下,不同能量的载流子有不同的平均(漂移)速度,所受Lorentz力的大小并不相同。只是某一特定能量(平均速度)的载流子所受Lorentz力与静电力完全抵消。高于和低于此能量(平均速度)者,所受合力分别指向相反的方向,使载流子的漂移运动向两边偏转。 这将导至电流减小,即导至横向磁阻效应。但应指出在简单能带情形下,当弛豫时间与能量无关时,横向磁阻为零。
若外加磁场与外加电场垂直,称为横向磁阻效应;若外加磁场与外加电场平行,称为纵向磁阻效应。一般情况下,载流子的有效质量的驰豫时时间与方向无关,则纵向磁感强度不引起载流子偏移,因而无纵向磁阻效应。
磁阻效应主要分为:常磁阻,巨磁阻,超巨磁阻,异向磁阻,穿隧磁阻效应等
常磁阻(OrdinaryMagnetoresistance,OMR)
对所有非磁性金属而言,由于在磁场中受到洛伦兹力的影响,传导电子在行进中会偏折,使得路径变成沿曲线前进,如此将使电子行进路径长度增加,使电子碰撞机率增大,进而增加材料的电阻。磁阻效应最初于1856年由威廉·汤姆森,即后来的开尔文爵士发现,但是在一般材料中,电阻的变化通常小于5%,这样的效应后来被称为“常磁阻”(ordinarymagnetoresistance,OMR)。
巨磁阻(GiantMagnetoresistance,GMR)
所谓巨磁阻效应,是指磁性材料的电阻率在有外磁场作用时较之无外磁场作用时存在巨大变化的现象。巨磁阻是一种量子力学效应,它产生于层状的磁性薄膜结构。这种结构是由铁磁材料和非铁磁材料薄层交替叠合而成。当铁磁层的磁矩相互平行时,载流子与自旋有关的散射最小,材料有最小的电阻。当铁磁层的磁矩为反平行时,与自旋有关的散射最强,材料的电阻最大。
超巨磁阻(ColossalMagnetoresistance,CMR)
超巨磁阻效应(也称庞磁阻效应)存在于具有钙钛矿(Perovskite)ABO3的陶瓷氧化物中。其磁阻变化随着外加磁场变化而有数个数量级的变化。其产生的机制与巨磁阻效应(GMR)不同,而且往往大上许多,所以被称为“超巨磁阻”。 如同巨磁阻效应(GMR),超巨磁阻材料亦被认为可应用于高容量磁性储存装置的读写头。不过,由于其相变温度较低,不像巨磁阻材料可在室温下展现其特性,因此离实际应用尚需一些努力。
异向磁阻(Anisotropicmagnetoresistance,AMR)
有些材料中磁阻的变化,与磁场和电流间夹角有关,称为异向性磁阻效应。此原因是与材料中s轨域电子与d轨域电子散射的各向异性有关。由于异向磁阻的特性,可用来精确测量磁场。
穿隧磁阻效应(Tunnel Magnetoresistance,TMR)
穿隧磁阻效应是指在铁磁-绝缘体薄膜(约1纳米)-铁磁材料中,其穿隧电阻大小随两边铁磁材料相对方向变化的效应。此效应首先于1975年由MichelJulliere在铁磁材料(Fe)与绝缘体材料(Ge)发现;室温穿隧磁阻效应则于1995年,由TerunobuMiyazaki与Moodera分别发现。此效应更是磁性随机存取内存(magneticrandomaccessmemory,MRAM)与硬盘中的磁性读写头(readsensors)的科学基础。