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多晶硅清洗机

能源问题正日益成为世界性问题,我国在太阳能光伏产业的核心技术已领先于世界水平,而用于太阳能的主要材料——多晶硅,它的清洗洁净程度直接影响到太阳能电池的成品率和性能。用超声波清洗的目的主要是清除多晶硅表面的沾污,如微粒,有机物,无机金属离子、氧化层等杂质。多晶硅表面吸附杂质的主要原因是,多晶硅表面原子垂直向上的化学键被破坏成为悬空键,在多晶硅表面形成自由力场,极易吸附各种杂质。这些杂质和多晶硅之间迅速形成化学吸附,难以去除。在生产多晶硅的生产工艺过程中,其中的一个重要环节,是采用超声波清洗应用技术。

多晶硅清洗机基本信息

多晶硅清洗机工艺流程

自动上料→去离子水 超声波清洗 振动筛抛动→碱液 超声波清洗 抛动→去离子水 超声波清洗 抛动→碱液 超声波清洗 抛动→碱液 超声波清洗 抛动→去离子水 超声波清洗 抛动 溢流→去离子水 超声波清洗 抛动 溢流→自动下料

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多晶硅清洗机造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

清洗机

  • 8×9钢丝管58类型:清洗机械;
  • 温兰
  • 9%
  • 甘肃温兰物资有限责任公司
  • 2022-12-07
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清洗机

  • 6×9钢丝管38类型:清洗机械;
  • 温兰
  • 9%
  • 甘肃温兰物资有限责任公司
  • 2022-12-07
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高压清洗机

  • AQT 1200 PLUS类型:清洗机械;品种:清洗机;规格:AQT 1200 PLUS;
  • 博世
  • 9%
  • 武汉金成科工贸有限责任公司
  • 2022-12-07
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高压清洗机

  • 品种:高压清洗机;流量:1000L/H;移动方式:轮式拖动式
  • 德利
  • 9%
  • 北京德利顺通清洁设备有限公司
  • 2022-12-07
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高压清洗机

  • 品种:高压清洗机;型号:CHY-1506C1;移动方式:轮式拖动式
  • 鑫瑞达
  • 9%
  • 北京鑫瑞达科技发展有限公司
  • 2022-12-07
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栏杆清洗

  • 装载质量5(t)
  • 台班
  • 韶关市2010年8月信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年4季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年1季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2005年3季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年3季度信息价
  • 建筑工程
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多晶硅光伏组件

  • 湖南兴业 260Wp
  • 576块
  • 1
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2021-06-01
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多晶硅光伏组件

  • 湖南兴业 260Wp
  • 576个
  • 1
  • 湖南兴业
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2019-05-15
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多晶硅光伏组件

  • Jkm270PP-60,尺寸 1650mm×992mm,功率270Wp
  • 1块
  • 2
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2017-10-26
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光伏组件(多晶硅)

  • 260Wp,0+3%,总容量93.6kwp
  • 360块
  • 3
  • 中国英利、南玻、天合
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2016-03-16
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多晶硅光伏组件

  • 型号:YL235P-29b
  • 182m²
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-04-13
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多晶硅清洗机应用范围

多晶硅超声波清洗加工设备,可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性。

炉前(RCA)清洗:扩散前清洗

光刻后清洗:除去光刻胶。

氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面所胡的沾污物。

抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。

外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。

合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后,表面杂质及光胶残渣。

离子注入后的清洗:除去光刻胶,SiO2层。

扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。

CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。

附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物。

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多晶硅清洗机产品结构

多晶硅超声波清洗要结构特点:

1、采用三套独立的电脑控制机械臂自动化作业

2、采用第三代最新技术,全面完善的防酸防腐措施,保护到机器每一个角落

3、最新全自动补液技术

4、独特的硅片干燥前处理技术,保证硅片干燥不留任何水痕

5、成熟的硅片干燥工艺,多种先进技术集于一身

6、彩色大屏幕人机界面操作,方便参数设置多工艺方式转换

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多晶硅清洗机常见问题

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多晶硅清洗机产品特点

多晶硅超声波清洗机具有以下特点:

1、械手或多机械手组合,实现工位工艺要求。

2、PLC全程序控制与触摸屏操作界面,操作便利。

3、自动上下料台,准确上卸工件。

4、净化烘干槽,独特的烘干前处理技术,工作干燥无水渍。

5、全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。

6、具备抛动清洗功能,保证清洗均匀。

7、全封闭清洗均匀。

8、全封闭外壳与抽风系统,确保良好工作环境。

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多晶硅清洗机产品类型

VGT-15204FST

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多晶硅清洗机文献

多晶硅生产装置碳钢管道的清洗 多晶硅生产装置碳钢管道的清洗

多晶硅生产装置碳钢管道的清洗

格式:pdf

大小:380KB

页数: 5页

介绍多晶硅生产装置碳钢管道的酸洗、脱脂和钝化等,分析管道及管件在清洗过程中所遇到现场保护的问题,并提出了改进措施。

多晶硅工艺流程 多晶硅工艺流程

多晶硅工艺流程

格式:pdf

大小:380KB

页数: 6页

多晶硅工艺流程简述 (改良西门子法及氢化) 氢气制备与净化工序 在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。电解制得的氢气经过冷 却、分离液体后,进入除氧器,在催化剂的作用下,氢气中的微量氧 气与氢气反应生成水而被除去。 除氧后的氢气通过一组吸附干燥器而 被干燥。净化干燥后的氢气送入氢气贮罐,然后送往氯化氢合成、三 氯氢硅氢还原、四氯化硅氢化工序。 电解制得的氧气经冷却、分离液体后,送入氧气贮罐。出氧气 贮罐的氧气送去装瓶。 气液分离器排放废吸附剂、 氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放、 干 燥器有废吸附剂排放,均供货商回收再利用。 氯化氢合成工序 从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返 回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。 出氢气缓冲 罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。 从液氯汽化工序来的氯气 经氯气缓冲罐, 也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。 氢气与氯气的 混合气体在燃烧

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