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x射线光电子能谱发展简史

x射线光电子能谱发展简史

1887年,海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应,1905年,爱因斯坦解释了该现象(并为此获得了1921年的诺贝尔物理学奖)。两年后的1907年,P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球(电子能量分析仪)和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系,他的实验事实上记录了人类第一条X射线光电子能谱。其他研究者如亨利·莫塞莱、罗林逊和罗宾逊等人则分别独立进行了多项实验,试图研究这些宽带所包含的细节内容。XPS的研究由于战争而中止,第二次世界大战后瑞典物理学家凯·西格巴恩和他在乌普萨拉的研究小组在研发XPS设备中获得了多项重大进展,并于1954年获得了氯化钠的首条高能高分辨X射线光电子能谱,显示了XPS技术的强大潜力。1967年之后的几年间,西格巴恩就XPS技术发表了一系列学术成果,使XPS的应用被世人所公认。在与西格巴恩的合作下,美国惠普公司于1969年制造了世界上首台商业单色X射线光电子能谱仪。1981年西格巴恩获得诺贝尔物理学奖,以表彰他将XPS发展为一个重要分析技术所作出的杰出贡献。

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x射线光电子能谱造价信息

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电子电源线

  • RV 0.12mm2 (7/0.15)
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  • 2022-12-06
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电子电源线

  • RV 0.3mm2 (16/0.15)
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电子电源线

  • RV 0.5mm2 (16/0.2)
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  • 深圳利路通科技有限公司海南分公司
  • 2022-12-06
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电子电源线

  • RV 0.75mm2 (24/0.2)
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  • 2022-12-06
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电子电源线

  • RVS 2×0.5mm2 (2×16/0.2)双绞
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  • 2022-12-06
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γ射线探伤机

  • 192/IY
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γ射线探伤机

  • 192/IY
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γ射线探伤机

  • 192/IY
  • 台班
  • 汕头市2010年3季度信息价
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γ射线探伤机

  • 192/IY
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γ射线探伤机

  • 192/IY
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光电子整流器

  • PLC插拨管 1×13W
  • 400套
  • 1
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  • 2009-12-30
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光电子支架

  • YZBK-E20A 20W单支
  • 7512根
  • 1
  • 创兴
  • 中档
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  • 2015-11-21
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光电子整流器

  • T5 1×21W
  • 450套
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2009-12-30
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光电子支架

  • YZBK-E40A 40W单支
  • 4700根
  • 1
  • 创兴
  • 中档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2015-06-26
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光电子灯架

  • T8/36W
  • 26套
  • 1
  • 雷士
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-04-17
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x射线光电子能谱简介

以X射线为激发光源的光电子能谱,简称XPS或ESCA。

处于原子内壳层的电子结合能较高,要把它打出来需要能量较高的光子,以镁或铝作为阳极材料的X射线源得到的光子能量分别为1253.6ev和1486.6ev,此范围内的光子能量足以把不太重的原子的1s电子打出来。周期表上第二周期中原子的1s电子的XPS谱线见图1。结合能值各不相同,而且各元素之间相差很大,容易识别(从锂的55电子伏增加到氟的694电子伏)。因此,通过考查1s的结合能可以鉴定样品中的化学元素。

除了不同元素的同一内壳层电子(inner shell electron)(如1s电子)的结合能各有不同的值而外,给定原子的某给定内壳层电子的结合能还与该原子的化学结合状态及其化学环境有关,随着该原子所在分子的不同,该给定内壳层电子的光电子峰会有位移,称为化学位移(chemical shift)。这是由于内壳层电子的结合能除主要决定于原子核电荷而外,还受周围价电子的影响。电负性比该原子大的原子趋向于把该原子的价电子拉向近旁,使该原子核同其1s电子结合牢固,从而增加结合能。如三氟乙酸乙酯CF3COOC2H5中的四个碳原子分别处于四种不同的化学环境,同四种具有不同电负性的原子结合。由于氟的电负性最大, CF婣中碳原子的C(1s)结合能最高(图2)。通过对化学位移的考察,XPS在化学上成为研究电子结构和高分子结构、链结构分析的有力工具。

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x射线光电子能谱基本原理

X射线光子的能量在1000~1500 ev之间,不仅可使分子的价电子电离而且也可以把内层电子激发出来,内层电子的能级受分子环境的影响很小。同一原子的内层电子结合能在不同分子中相差很小,故它是特征的。光子入射到固体表面激发出光电子,利用能量分析器对光电子进行分析的实验技术称为光电子能谱。

XPS的原理是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。可以测量光电子的能量,以光电子的动能/束缚能(binding energy,Eb=hv光能量-Ek动能-w功函数)为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图。从而获得试样有关信息。X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)。

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x射线光电子能谱发展简史常见问题

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x射线光电子能谱特点

XPS作为一种现代分析方法,具有如下特点 :

(1)可以分析除H和He以外的所有元素,对所有元素的灵敏度具有相同的数量级。

(2)相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰较少,元素定性的标识性强。

(3)能够观测化学位移。化学位移同原子氧化态、原子电荷和官能团有关。化学位移信息是XPS用作结构分析和化学键研究的基础。

(4)可作定量分析。既可测定元素的相对浓度,又可测定相同元素的不同氧化态的相对浓度。

(5)是一种高灵敏超微量表面分析技术。样品分析的深度约2 nm,信号来自表面几个原子层,样品量可少至10-8g,绝对灵敏度可达10-18g。

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x射线光电子能谱XPS特点

XPS作为一种现代分析方法,具有如下特点:

(1)可以分析除H和He以外的所有元素,对所有元素的灵敏度具有相同的数量级。

(2)相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰较少,元素定性的标识性强。

(3)能够观测化学位移。化学位移同原子氧化态、原子电荷和官能团有关。化学位移信息是XPS用作结构分析和化学键研究的基础。

(4)可作定量分析。既可测定元素的相对浓度,又可测定相同元素的不同氧化态的相对浓度。

(5)是一种高灵敏超微量表面分析技术。样品分析的深度约2nm,信号来自表面几个原子层,样品量可少至10g,绝对灵敏度可达10g。

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x射线光电子能谱XPS系统组件

一台商业制造的XPS系统的主要组件包括:

X射线源超高真空不锈钢舱室及超高真空泵电子收集透镜电子能量分析仪μ合金磁场屏蔽电子探测系统适度真空的样品舱室样品支架样品台样品台操控装置
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x射线光电子能谱系统组件

一台商业制造的XPS系统的主要组件包括:

  • X射线源

  • 超高真空不锈钢舱室及超高真空泵

  • 电子收集透镜

  • 电子能量分析仪

  • μ合金磁场屏蔽

  • 电子探测系统

  • 适度真空的样品舱室

  • 样品支架

  • 样品台

  • 样品台操控装置

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x射线光电子能谱XPS系统结构原理

X射线源是用Al或Mg作阳极的X射线管。 它们的光子能量分别是1486eV和1254eV 。 安装过滤器

(或称单色器)是为了减小光子能量分散。

样品室内的样品架安装有传动机构,不但可以做x,y和z三个互相垂直方向的移动。还可沿某一坐标轴作 一定角度的旋转。这样便于观察分析研究样品不同部位的情况。

电子能量分析器是X射线光电子能谱仪的关键组成部分。它 的作用是测 量电子能量分 布和不 同能量 电子的相对强度。电子能量分析器和电子倍增器系统完全由微型电子计算机控制。

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x射线光电子能谱系统结构原理

X射线源是用Al或Mg作阳极的X射线管。 它们的光子能量分别是1486 eV和1254 eV 。 安装过滤器(或称单色器)是为了减小光子能量分散。

离子枪的作用一方面是为了溅射清除样品表面污染,以便得到清洁表面,从而提高其分析的准确性。另一 方面,可以对样品进行溅射剥离,以便分析不同深度下样品的成份。

样品室内的样品架安装有传动机构,不但可以做x,y和z三个互相垂直方向的移动。还可沿某一坐标轴作一定角度的旋转。这样便于观察分析研究样品不同部位的情况。

电子能量分析器是X射线光电子能谱仪的关键组成部分。它的作用是测量电子能量分布和不同能量电子的相对强度。电子能量分析器和电子倍增器系统完全由微型电子计算机控制。

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x射线光电子能谱应用

x射线光电子能谱概述

对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析。 固体样品表面的组成、化学状态分析,广泛应用于元素分析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、元素价态鉴定。此外在对氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包覆等微观机理研究;污染化学、尘埃粒子研究等的环保测定;分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究等方面有所应用。

XPS与某些分析方法的比较 :

方法名称

信息来源

分析方式

样品状态

样品用量(g)

分辨率

灵敏度

真空(Pa)

XPS

表面<8nm

非破坏

固、气、液

10-6~10-8

较低

10-18

1.33×10-4~1.33×10-9

吸收光谱

本体

非破坏

固、气、液

10-2~10-3

10-9

发射光谱

本体

破坏

10-12

质谱

本体

破坏

固、气、液

10-3~10-4

10-13

1.33×10-2~1.33×10-5

NMR

本体

非破坏

液(固 )(气)

5×10-3

穆斯堡尔谱

表面

非破坏

固(Fe,Sn,稀土)

10-3

电子探针

表面

非破坏

10-16

1.33×10-1~1.33×10-3

离子探针

表面

破坏

10-11

X射线荧光

表面

非破坏

10-17

x射线光电子能谱常规应用

1.样品表面1-12nm的元素和元素质量

2.检测存在于样品表面的杂质

3.含过量表面杂质的自由材料的实验式

4.样品中一种或多种元素的化学状态

5.一个或多个电子态的键能

6.不同材料表面12 nm范围内一层或多层的厚度

7.电子态密度测量

x射线光电子能谱应用限制

量化精确度:

分析时段

探测限制

分析区域限制

样品大小限制

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x射线光电子能谱发展简史文献

镀锌三价铬钝化膜的X射线光电子能谱研究 镀锌三价铬钝化膜的X射线光电子能谱研究

镀锌三价铬钝化膜的X射线光电子能谱研究

格式:pdf

大小:900KB

页数: 3页

采用中性盐雾试验比较了酸性氯化钾镀锌层经3种不同钝化剂钝化处理后所得钝化膜的耐蚀性,采用X射线光电子能谱研究了不同钝化膜的厚度及组成。结果表明,SpectraMATETM 25彩色钝化所得钝化膜的耐蚀性最好,可以经受336 h以上的中性盐雾试验,TRI-V121钝化膜的耐蚀性次之,TRI-V120钝化膜最差。TRI-V120和TRI-V121蓝白钝化所得钝化膜的主要组成为Cr2O3,厚度均为200 nm左右,但后者的Cr含量较高,因此具有较高的耐蚀性;经SpectraMATETM 25彩色钝化所得钝化膜的组成为Cr(OH)3和Cr2O3,厚度约为800 nm,膜层厚是其具有高耐蚀性的主要原因。

竹木质素的红外光谱与X射线光电子能谱分析 竹木质素的红外光谱与X射线光电子能谱分析

竹木质素的红外光谱与X射线光电子能谱分析

格式:pdf

大小:900KB

页数: 6页

应用傅里叶转换红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS),研究了3种提纯方法得到的竹木质素及其化学反应产物的化学结构特性.确定竹木质素C1s的电子结合能分别为283.52(C—H或C—C),284.58~285.72(C—OR或C—OH),286.10~286.44(C=O或HO—C—OR),287.65~287.72(O—C=O)eV.O1s的电子结合能分别为530.31(羟基氧原子),531.45~531.72(醛或酮的羰基氧原子),532.73~533.74(酯键或羧酸中的羰基氧原子)eV.竹木质素中的结构单元之间主要是通过醚键和碳碳单键连接,慈竹磨木木质素结构单元中醚键、碳碳单键、酯键、羰基和烯双键的比例为100∶63∶32∶40∶32(49.3∶31.0∶16.0∶19.9∶16.0).

X射线光电子能谱分析定义及原理

X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射线去辐射样品,使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子,可以测量光电子的能量,以光电子的动能为横坐标,相对强度(脉冲/s)为纵坐标可做出光电子能谱图,从而获得待测物组成。XPS主要应用是测定电子的结合能来实现对表面元素的定性分析,包括价态。 X射线光电子能谱因对化学分析最有用,因此被称为化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA) 。1887年,Heinrich Rudolf Hertz发现了光电效应。二十年后的1907年,P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球 (电子能量分析仪)和照相平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系。

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X射线光电子能谱仪主要用途

XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:

1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。

2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)

3. 线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。

4. 成像功能。

5. 可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究

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x射线光电子能谱仪主要用途

XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:

1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.

2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)

3. 线扫瞄或面扫瞄以得到线或面上的元素或化学态分布.

4. 成像功能.

5. 可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究

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