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抛光垫

抛光垫又称抛光皮,抛光布,抛光片,化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。

抛光垫基本信息

抛光垫作用

①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;

②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出,达到去除效果;

③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行;

④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌;

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抛光垫造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

抛光

  • 巴塞纳 垂直微粉升级版 一类 LW68 规格1200×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-06
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抛光

  • 米若拉 一类 LW83 规格600×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-06
查看价格

抛光

  • 原石印象 垂直布料立体微粉 三类 LW9 规格1200×600
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-06
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抛光

  • 丝绸之路 半透立体微粉 一类 Lw28 规格1000×1000
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-06
查看价格

抛光

  • 水岸春天 一类 LW66 规格800×800
  • 格莱斯
  • 13%
  • 广东新明珠陶瓷集团有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-06
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隔音

  • 厚度1.5mm
  • 惠州市2022年7月信息价
  • 建筑工程
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隔音

  • 厚度3.0mm
  • 惠州市2022年7月信息价
  • 建筑工程
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隔音

  • 厚度1.5mm
  • 惠州市2022年5月信息价
  • 建筑工程
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隔音

  • 厚度3.0mm
  • 惠州市2022年3月信息价
  • 建筑工程
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隔音

  • 厚度1.5mm
  • 惠州市2021年12月信息价
  • 建筑工程
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  • 优质棕
  • 8张
  • 1
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-08-19
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麦克

  • 加筋麦克
  • 3100m²
  • 3
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-03-24
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  • 优质棕
  • 30张
  • 1
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-08-19
查看价格

U型

  • U型
  • 4000个
  • 3
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2017-11-30
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绝缘

  • 绝缘
  • 100m²
  • 1
  • 不含税费 | 含运费
  • 2012-03-26
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抛光垫影响因素

①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力;

②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力;

③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量;

④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度,;

⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度;

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抛光垫分类

按是否含有磨料可以分为有磨料抛光垫和无磨料抛光垫; 按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫; 按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型。

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抛光垫常见问题

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抛光垫文献

固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究 固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究

固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究

格式:pdf

大小:1.4MB

页数: 6页

采用失重法与铅笔硬度计分析了抛光垫的组分对其溶胀率及干湿态硬度的影响,比较了固结磨料方法与游离磨料方法抛光后硅片的表面粗糙度。结果表明:抛光垫基体的溶胀率随基体中聚乙二醇双丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羟基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基体的干态硬度随PEGDA含量的增加先有所增大,而后减小,随EO15-TMAPTA含量的增加而增大;湿态下铅笔硬度随PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而减小;光引发剂量的增加,有利于增大基体的干湿态硬度;固结磨料抛光硅片的去除速率是游离磨料加工的2~3倍,而前者抛光硅片后的表面粗糙度Ra为12.2nm,大于后者的4.32nm。

叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析 叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析

叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析

格式:pdf

大小:1.4MB

页数: 6页

为了解决在化学机械抛光过程中抛光接触区域内抛光液的分布均匀性问题,基于生物学的叶序理论,设计葵花籽粒结构的仿生抛光垫,建立化学机械抛光抛光液流场的运动方程和边界条件,利用流体力学软件(Fluent)对抛光液的流动状态进行仿真,并获得叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。结果表明:抛光液在基于葵花籽粒的仿生抛光垫的流动是均匀的,抛光液沿着逆时针和顺时针叶列斜线沟槽流动,有利于流体向四周发散。

抛光垫调节概述

一种用于调节制作半导体晶片的CMP装置的抛光垫的装置,该装置包括构造成至少部分地在一抛光垫之上延伸的一控制臂。该装置还包括连接至控制臂的至少一个圆柱形调节件,该控制臂构造成将所述至少一个圆柱形调节件施加至抛光垫。

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抛光垫板出处

《林学名词》第二版。

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抛光垫板定义

表面经抛光、光洁度较高的不锈钢板。

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