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微波等离子体CVD系统技术指标

微波等离子体CVD系统技术指标

1、微波工作频率:2450±50MHZ,微波输出功率:0.5-5KW连续可调;功率稳定度:优于±1%;2、输出波导接口:BJ-26带FD-26标准法兰;3、微波反应腔尺寸和工作模式:ф124×200(H),下注TM013模式;4、微波放电腔:多端口,带双层水冷;5、真空系统:600L/min分子泵和旁路机组中气压真空测控;6、样品支架系统:基板直径ф100mm;7、轴向调节距离:0-150mm。

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微波等离子体CVD系统造价信息

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  • 信息价
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等离子体静电空气净化装置

  • VBK-Z-3000 490×760×210
  • 伟一(V1)
  • 13%
  • 东莞市伟一环境科技有限公司
  • 2022-12-07
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等离子体静电空气净化装置

  • VBK-Z-4500 980×566×210
  • 伟一(V1)
  • 13%
  • 东莞市伟一环境科技有限公司
  • 2022-12-07
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等离子体静电空气净化装置

  • VBK-Z-7500 980×945×210
  • 伟一(V1)
  • 13%
  • 东莞市伟一环境科技有限公司
  • 2022-12-07
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等离子体静电空气净化装置

  • VBK-Z-10500 980×1392×210
  • 伟一(V1)
  • 13%
  • 东莞市伟一环境科技有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

等离子体静电空气净化装置

  • VBK-Z-12000 980×1520×210
  • 伟一(V1)
  • 13%
  • 东莞市伟一环境科技有限公司
  • 2022-12-07
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体化应急系统

  • JG-YYZ36E40W
  • 阳江市2005年3月信息价
  • 建筑工程
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体化应急系统

  • JG-YYZ30E30W
  • 阳江市2005年2月信息价
  • 建筑工程
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体化应急系统

  • JG-YYZ36E40W
  • 阳江市2004年12月信息价
  • 建筑工程
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体化应急系统

  • JG-YYZ18E20W
  • 阳江市2004年12月信息价
  • 建筑工程
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体化应急系统

  • JG-YYZ18E20W
  • 阳江市2004年11月信息价
  • 建筑工程
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经济技术指标

  • 40层
  • 04.2m层高
  • 1
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2009-05-12
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等离子体净化装置

  • 1.型号:VBK-HD-13B2.规格:风量=1360/h
  • 3台
  • 3
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2021-09-29
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等离子体净化装置

  • 1.型号:VBK-HD-13B2.规格:风量=1360/h
  • 3台
  • 3
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2021-10-15
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电感耦合等离子体质谱仪

  • 参数配置详见附件
  • 1台
  • 1
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-09-21
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等离子体空气净化消毒机

  • 等离子体空气净化消毒机1.型式:等离子体空气净化消毒机2.规格:积≤60m3
  • 20只
  • 1
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-07-04
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微波等离子体CVD系统主要功能

1、金刚石等多种薄膜的化学汽相沉积的研究;2、基片的刻蚀和灰化;3、作为高密度、宽束离子源;4、低温氧化物的生长;5、等离子体表面处理和其它实验加工。

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微波等离子体CVD系统技术指标常见问题

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微波等离子体CVD系统技术指标文献

高分子等离子体涂料 高分子等离子体涂料

高分子等离子体涂料

格式:pdf

大小:1.3MB

页数: 1页

本发明和一种在天然和/或合成有机材料表面用做防火和/或耐火层的等离子高分子涂料有关。把表面暴露在一种蒸气的等离子中得到这种涂料,特别地,单体含有卤素和/或磷和/或氮和/或硅,比如含氟组分,含磷组分,含硅组分,含氮组分。这种涂层可被应用于在公共场合如飞机,电影院,汽车,火车,餐馆等使用的窗户,织物,地毯等。通过把表面暴露在等离子体中得到涂层。暴露时间从30秒到5小时,压力从10到1200mtorr。

电容耦合微波等离子体概述

电容耦合微波等离子体(焰炬)capaciti}cly coupled trii- }rnwa}e plasma 波为辐射频率, ( torch ) E-大于〕1f1MI-}z(一般为24}n:'v1H} )微 功率在数百瓦到数千瓦的一种电容藕合等离 子体光源。由磁控管产生微波,通过同轴波导管传输到一根 同轴电极上,在电极尖端生成等离子体(焰炬)。它可在大气 压下放电点燃二试样雾化后随载气进人等离子体激发发光。

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HT-CVD简介

采用HT-CVD 技术生产的硬质涂层材料主要有:TiC、TiN、TiCN、Cr7C3、TiBN、Al2O3 等单涂层和它们的复合涂层材料。高温化学气相沉积工艺过程包括工件沉积前处理(工件清洗、强化处理等)、装炉、检漏、加热升温、沉积、冷却、检查和包装等。

在整个沉积工艺过程中,要严格控制各加热温度和各种气体流量。特别对CH4,TiCl4等反应气体通人时间和流量,更需按工艺要求控制到位,否则对涂层质量会有很大影响。

沉积工艺举例如下

TiC 涂层

沉积温度:1000~1050℃

沉积室压力: (1~2)×104Pa

沉积时间:60~ 180min

各反应气体流量: 主H2 7000~ 12000SCCM;CH4 4000-~8000SCCM (SCCM 即cm3/min);TiCl: 加热温度45~65℃;载气H2 4000~6000SCCM

TiN 涂层

沉积温度: 950~1000℃

沉积室压力: (1~2)X104Pa

沉积时间:60~ 180min

各反应气体流量:主H2 8000~13000SCCM;N2 6000~ 10000SCCM;TiCl ;加热温度45~65℃;载气H2 5000 9000SCCM2100433B

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地面微波通信系统简介

地面微波通信系统由视野范围内的两个互相对准方向的抛物面天线组成,能够实现视野范围内的微波通信。

地面微波通信系统主要作为计算机网络的中继链路,实现两个或多个局域网的互连,扩大网络的覆盖范围。例如,两个相距较远大楼中的局域网可以采用地面微波通信系统互相连通,实现数据通信。在某些情况下,这种远程连接方式可能比有线远程连接的费用要低廉一些。

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